专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]以雷射开窗形成光学挡墙的方法及光学挡墙结构-CN201910547355.5在审
  • 李蕙如 - 培英半导体有限公司
  • 2019-06-24 - 2020-12-25 - H01L33/48
  • 本发明提供一种光学挡墙结构,其包括一基板、一第一挡墙层、一雷射遮蔽铜层及一第二挡墙层,基板具有一工作面,第一挡墙层形成于工作面上,且第一挡墙层围构一裸露工作面的第一开窗;雷射遮蔽铜层形成于第一挡墙层的一上表面但不形成于围构第一开窗的侧壁;第二挡墙层形成于雷射遮蔽铜层上,且第二挡墙层围构一第二开窗,第二挡墙层的横截面积小于第一挡墙层,第二开窗的轮廓大于第一开窗,且第二开窗裸露雷射遮蔽铜层的一部分。本发明还提供一种以雷射开窗形成光学挡墙的方法。
  • 雷射开窗形成光学挡墙方法结构

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