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[发明专利]一种内置有晶圆姿态调整机构的超声清洗设备-CN202210529450.4在审
发明人：孙先淼;周训丙 -专利权人：智程半导体设备科技（昆山）有限公司
申请日： 2022-05-16 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及超声清洗设备技术领域，且公开了一种内置有晶圆姿态调整机构的超声清洗设备，包括减速升降组件，所述减速升降组件的内部设有驱动齿轮，所述驱动齿轮的外壁啮合连接有减速齿轮，所述减速齿轮的外壁啮合连接有内齿盘。该内置有晶圆姿态调整机构的超声清洗设备，驱动齿轮通过减速齿轮带动内齿盘转动，避免清洗花篮升降和转动过程中速度过快，导致其损坏，此时内齿盘带动涡轴转动，进一步使得偏心盘带动升降板上下往复运动，此时支撑卡板顶部的清洗花篮也可以上下往复运动，此时驱动锥轮带动从动锥轮转动，进一步使得清洗花篮上下运动的过程中转动，从而达到了便于提高清洗均匀性避免超声波发生装置一侧的晶圆清洗较差的效果。
一种内置有晶圆姿态调整机构超声清洗设备

[发明专利]一种具有防碎片功能的硅片清洗装置-CN202210385563.1在审
发明人：华斌;周训丙 -专利权人：智程半导体设备科技（昆山）有限公司
申请日： 2022-04-13 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明公开的一种具有防碎片功能的硅片清洗装置，涉及半导体硅片清洗技术领域，包括箱体以及安装在箱体上的升降组件，还包括，与升降组件连接的抬升机构，以及与抬升机构连接的控制机构、调整机构，所述升降组件用于带动抬升机构升降，所述抬升机构在升降过程中驱动调整机构运作，通过改变硅片的受力方式，增加清洗过程中的硅片稳定性，同时改变清洗过程中的部分流程，以保证工作过程中不会有掉片的可能，降低由掉片引发的碎片风险。
一种具有碎片功能硅片清洗装置

[发明专利]用于半导体晶片一体化循环冷却清洗的快冲快排槽-CN202210188985.X有效
发明人： 周训丙;陈良 -专利权人：智程半导体设备科技（昆山）有限公司
申请日： 2022-03-01 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提出了用于半导体晶片一体化循环冷却清洗的快冲快排槽，涉及半导体晶片清洗技术领域。该用于半导体晶片一体化循环冷却清洗的快冲快排槽，包括清洗槽，所述清洗槽外侧转动连接有盖板，所述清洗槽内壁两侧均固定连接有滑动架，两个所述滑动架之间设有固定板并与固定板滑动连接，该用于半导体晶片一体化循环冷却清洗的快冲快排槽，由于第一齿条设置于放置槽内部，从而使第二齿轮推动第一齿条，使多个第一齿条一端固定连接的夹板对晶片进行夹持固定，有利于快速对多个晶片固定，对于晶片的接触减少，避免了清洗时由于固定导致的遮挡，影响清洗效率，同时对晶片固定，避免了晶片在清洗时晃动导致其损坏。
用于半导体晶片一体化循环冷却清洗快冲快排槽

[外观设计]清洗机-CN202130792465.6有效
发明人： 周训丙;岳佳佳 -专利权人：智程半导体设备科技(昆山)有限公司
申请日： 2021-12-01 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： 15-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：清洗机。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于清洗晶圆。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
清洗

[外观设计]清洗机-CN202130792738.7有效
发明人：岳佳佳;周训丙 -专利权人：智程半导体设备科技(昆山)有限公司
申请日： 2021-12-01 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： 15-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：清洗机。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于清洗晶圆。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
清洗

[外观设计]清洗机-CN202130792739.1有效
发明人：岳佳佳;周训丙 -专利权人：智程半导体设备科技(昆山)有限公司
申请日： 2021-12-01 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： 15-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：清洗机。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于清洗晶圆。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
清洗

[外观设计]清洗机-CN202130793353.2有效
发明人： 周训丙;岳佳佳 -专利权人：智程半导体设备科技(昆山)有限公司
申请日： 2021-12-01 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： 15-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：清洗机。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于清洗晶圆。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
清洗

[发明专利]一种机械手-CN202111252869.1在审
发明人：华斌;周训丙;刘瑞 -专利权人：智程半导体设备科技（昆山）有限公司
申请日： 2021-10-27 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： B25J13/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种机械手，包括：连接结构，设置于连接结构下方的钩取结构，弹簧组件及压力传感器，钩取结构包括安装部及与挂钩，弹簧组件配置竖向贯穿安装部的导轴，套设于导轴的弹簧及贯穿安装部的轴套，导轴的下端固定连接第一抵接板，轴套于安装部的下方固定连接第二抵接板，弹簧的两端抵接于第一抵接板与第二抵接板，压力传感器设置于第一抵接板或第二抵接板。本发明的机械手，通过在钩取结构上设置弹簧组件，并于弹簧组件上设置压力传感器，实现了对机械手的每个钩取结构所承受的压力进行实时监控的需求，使进一步能够及时调整载具的重力平衡，以避免载具偏移，导致在提升或运载的过程中存在载具中承载的晶圆从载具的一侧掉落的风险。
一种机械手

[发明专利]石英管清洗装置及清洗方法-CN202111059562.X有效
发明人：华斌;周训丙;万帮勇;李文轩 -专利权人：智程半导体设备科技（昆山）有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： B08B9/28 文献下载
摘要：本发明提供了一种石英管清洗装置及清洗方法，该石英管清洗装置包括底部具敞口的清洗罩，与清洗罩沿垂直方向活动插接装配的底座，设置于底座内并箍持石英管的承载台，以及驱动装置；清洗罩的顶部设置第一喷嘴，清洗罩的侧壁竖直设置若干第二喷嘴，承载台垂直设置内喷管，内喷管位于承载台上方的顶部和侧部设置若干第三喷嘴；底座嵌设回旋密封装置，内喷管沿垂直方向连续贯穿承载台与回旋密封装置；驱动装置驱动承载台旋转，内喷管在承载台旋转过程中保持静止。通过申请，实现了对各种尺寸的石英管进行高效清洗作业，能够满足不同直径石英管清洗的需求，简化了石英管清洗装置的结构并提高了使用寿命，避免了石英管在清洗过程中造成损坏。
石英管清洗装置方法

[发明专利]一种半导体制冷温控装置-CN202110542989.9有效
发明人：华斌;周训丙 -专利权人：智程半导体设备科技（昆山）有限公司
申请日： 2021-05-19 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提出了一种半导体制冷温控装置，包括位于药液腔两侧的固定板，所述固定板中心设有第一热交换板，所述第一热交换板一面位于所述药液腔内，另一面上连接有半导体制冷片，所述半导体制冷片外部设有第二热交换板；所述固定板四周设有快装压力机构，所述快装压力机构用于压紧两个所述固定板，本半导体制冷温控装置是具有双向温控功能，控温精度可以控制在所需温度的±0.1℃范围内，在一些温度要求较高的制程中有较好的应用，另外，为了保证散热效果，通过不断的将两个固定板压紧，能够减少各个换热板与半导体制冷片之间的紧密度，保证降温效果，且防止传热不紧密影响检测温度。
一种半导体制冷温控装置

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