专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]接合结构-CN202221228654.6有效
  • 陈昭丞;张皇贤;周泽川 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2022-05-19 - 2022-09-27 - H01L21/60
  • 本申请涉及接合结构。该接合结构包括第一接合单元,该第一接合单元包括:第一金属垫;第一绝缘层,覆盖所述第一金属垫的顶面外侧,并界定出位于所述第一金属垫顶侧的第一开孔;以及第一金属层,覆盖所述第一金属垫的顶面并位于所述第一开孔中,并且与所述第一金属垫之间形成有非化合物界面。该接合结构有利于提高金属层边缘的清晰度,进而提高金属层对接时的对位精度。
  • 接合结构
  • [发明专利]电容构造及其制作方法-CN201310046969.8有效
  • 钟旻华;周泽川;唐和明;杨秉丰 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2013-02-08 - 2013-06-12 - H01L23/64
  • 本发明公开一种电容构造及其制作方法,所述电容构造包含一第一金属层、一钽金属层、一复合材料层及一第二金属层。所述钽金属层设于所述第一金属层上;所述复合材料层设于所述钽金属层上;以及所述第二金属层设于所述复合材料层上。所述复合材料层包含五氧化二钽基材,并掺杂有二氧化钛复合材料颗粒。本发明通过一阳极氧化处理使所述钽金属层上形成一钽金属氧化层,再利用一钛塩溶液以及通过一加热过程形成所述复合材料层,以作为所述电容构造的介电材料层。相较现有干式制造方法使用沉积工艺需要较长的沉积时间及较高的设备与制造成本,本发明的湿式制造方法可节省电容的制作时间及降低成本,且能相对提升电容构造的电性表现。
  • 电容构造及其制作方法
  • [发明专利]间隔件及其制造方法-CN201210163526.2有效
  • 周泽川;唐和明;黄东鸿;黄文宏 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2012-05-24 - 2012-10-17 - H01L21/768
  • 本发明公开一种间隔件及其制造方法。所述间隔件包含一光刻胶型封胶体,具有一第一表面以及一第二表面,并包含数个通孔以及数个导电柱。所述通孔贯穿所述第一表面与第二表面,所述导电柱对应填充于所述通孔中。所述间隔件另包含一第一图案化线路层及一第二图案化线路层,分别形成于所述封胶体的第一及第二表面。所述第二图案化线路层通过所述导电柱电性连接至所述第一图案化线路层,其中所述光刻胶型封胶体包含光刻胶材料、环氧树脂以及填充颗粒,且所述填充颗粒的直径小于两个相邻所述导电柱的间距的三分之一。
  • 间隔及其制造方法

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