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[发明专利]具有改良图案轮廓及焦深(DOF)的正型光致抗蚀剂组合物-CN202280009208.2在审
发明人：陈宏扬;司堃;陈春伟;李钟;吴恒鹏 -专利权人：默克专利股份有限公司
申请日： 2022-01-05 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G03F7/023 文献下载
摘要：所公开的主题涉及包括以下组分的抗蚀剂组合物：组分a)具有结构(I)及(II)的两种酚醛清漆聚合物的共混物；组分b)重氮萘醌磺酸盐(DNQ‑PAC)组分，其为具有结构(III)的通式或具有通式(III‑1)的单一材料或材料混合物；组分c)包含多酚化合物的溶解增强剂组分，该多酚化合物为选自由低聚分馏酚醛清漆、具有通式结构(VI)的化合物及具有通式结构(VII)的化合物组成的组的单一化合物或至少两种化合物的混合物，其中Rde1、Rde2、Rde3、Rde4及Rde5各个地选自C‑1至C‑4烷基；组分d)表面活性剂；及组分e)有机旋转浇铸溶剂；及任选的组分f)杂环硫醇。
具有改良图案轮廓焦深 dof 正型光致抗蚀剂组合

[发明专利]光致抗蚀剂移除剂组合物-CN202180084072.7在审
发明人： 吴恒鹏;D·伦尼 -专利权人：默克专利股份有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C11D11/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种组合物，其包括至少一种具有结构(I)的磺基水杨酸或其水合物及其混合物，及具有结构(I)的磺基水杨酸或其水合物，主溶剂，其选自丙酮及甲基乙基酮或这些溶剂的混合物，任选的辅助溶剂，其为乙醇酸类衍生物或至少两种乙醇酸类衍生物的混合物及任选的表面活性剂。
光致抗蚀剂移组合

[发明专利]嵌段共聚物自组装的新组合物和方法-CN201780080045.6有效
发明人： 吴恒鹏;金志勋;单槛会;D·巴斯卡兰;M·S·拉曼 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2017-12-19 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： C08F8/00 文献下载
摘要：本发明涉及新型苯乙烯类聚合物和涉及包含该聚合物和溶剂的新型组合物，其中该苯乙烯类聚合物的多分散性为1至1.3，并且进一步地其中该苯乙烯类聚合物的每个聚合物链采用结构1)的一个端基封端，其中L是连接基团，其选自直接价键，氧基(‑O‑)，羰氧基，(‑(C＝O)‑O‑)，碳酸酯基(‑O‑(C＝O)‑O‑)；L2是C‑1至C‑20取代或未取代的亚烷基间隔基、亚芳基间隔基或直接价键，R是氢，卤素，C‑1至C‑20烷基部分或C‑1至C‑20烷氧基部分，m是1至3的整数；以及(I)表示将端基1)连接到苯乙烯类聚合物的聚合物链末端的直接价键。另一方面，本发明涉及该组合物在衬底上形成接枝膜的用途，以及另一方面该接枝膜可用于定向自组装过程。
共聚物组装组合方法

[发明专利]光致抗蚀剂去除剂组合物-CN202080050038.3在审
发明人： 吴恒鹏;R·阿伦特 -专利权人：默克专利股份有限公司
申请日： 2020-07-09 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及组合物，其包含磺酸和溶剂二丙二醇二甲醚[CAS登记号111109‑77‑4](III)，所述磺酸选自由具有结构(I)的烷基苯磺酸或其水合物(其中n是6至16的整数)、具有结构(II)的磺基水杨酸或其水合物及其混合物组成的组；
光致抗蚀剂去除组合

[发明专利]光刻胶去除剂组合物-CN201880002643.6有效
发明人： 吴恒鹏 -专利权人：默克专利股份有限公司
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及去除剂组合物，其包含四烷基氢氧化铵、苄型醇、包含至少一种二醇化合物的二醇组分，和烷基胺组分，其中所述烷基胺组分选自二烷基胺、具有拥有结构(I)的结构的单烷基胺和它们的组合，其中，在所述二烷基胺中，该烷基基团之一为C‑1至C‑4正烷基且另一个烷基基团为C‑16至C‑20正烷基，对于所述单烷基胺来说，m’和m独立地选自范围在4‑8的整数。本发明还涉及使用这些组合物从基材去除图案化的光刻胶的方法。
光刻去除组合

[发明专利]新型组合物及其用于改性基底表面的用途-CN201680058330.3有效
发明人：林观阳;吴恒鹏;金志勋;殷建;D·巴斯卡兰;单槛会 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2016-12-20 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： C09D133/08 文献下载
摘要：本发明涉及包含聚合物和旋转浇铸有机溶剂的均匀溶液的非水性可接枝涂料组合物，其中该组合物不含酸性化合物、着色颗粒、颜料或染料，并且该聚合物具有含有衍生自含有单一可聚合烯烃碳碳双键的单体的重复单元的线性聚合物链结构，并且该聚合物含有至少一个选自具有结构(I)的重复单元，结构(II)的末端链基团单元及其混合物的含有三芳基甲基硫族元素化物的部分，并且该聚合物不含任何含有可水电离基团、离子基团、游离巯基或游离羟基的重复单元或端基，并且其中A1，A2和A3独立地选自芳基或取代的芳基；Y是选自O，S，Se或Te的硫族元素；X1和X2是独立选择的有机间隔基；P1是衍生自含有单一可聚合烯烃碳碳双键的单体的有机聚合物重复单元部分；P2是衍生自含有单一可聚合烯烃碳碳双键的单体的端基部分，并且(式AA)表示连接到线性聚合物的直接价键。本发明还涉及使用该新型涂料组合物在基底上形成接枝聚合物膜。
新型组合及其用于改性基底表面用途

[发明专利]用于自组装应用的聚合物组合物-CN201780050456.0有效
发明人： 吴恒鹏;殷建;林观阳 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2017-08-16 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： C09D133/14 文献下载
摘要：本发明涉及组合物，其包含至少一种具有至少一个结构(1)的重复单元的无规共聚物，本发明还涉及通过使涂覆在新型交联层上的嵌段共聚物的膜发生自组装来使用基材上这样的新型交联层形成图案的新型方法。
用于组装应用聚合物组合

[发明专利]光致抗蚀剂去除剂组合物-CN201980006779.9在审
发明人： 吴恒鹏;林观阳 -专利权人：默克专利股份有限公司
申请日： 2019-01-23 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及组合物，其基本由以下物质组成：具有结构(I)的烷基苯磺酸(其中n为0‑16的整数)；溶剂，其选自由具有结构(II)的溶剂(其中R选自‑(‑O‑CH2‑CH2‑)n’‑OH、‑OH和‑O‑C(＝O)‑CH3，其中n’等于1、2、3或4)、具有结构(III)的溶剂、具有结构(IV)的溶剂和具有结构(V)的溶剂组成的组，或选自该组的至少两种溶剂的溶剂混合物。在另一个实施方案中，该组合物还额外地包含表面活性剂组分。本发明还涉及使用这些组合物从基底去除图案化的光致抗蚀剂。
光致抗蚀剂去除组合

[发明专利]光致抗蚀剂去除剂组合物-CN201980006788.8在审
发明人： R·阿伦特;吴恒鹏;林观阳 -专利权人：默克专利股份有限公司
申请日： 2019-01-23 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及组合物，其基本上由以下物质组成：选自樟脑磺酸和结构(I)的苯磺酸的磺酸组分，其中R为H或C‑1至C‑18正烷基，草酸、溶剂组分，所述溶剂基本上由有机溶剂组分或有机溶剂组分与水的混合物组成，其中有机溶剂组分由约100wt％至约85wt％的所述溶剂组分组成，和进一步其中所述有机溶剂组分或为选自由溶剂(III),(IV),(V),(VI)(其中R选自‑(‑O‑CH2‑CH2‑)n’‑OH,‑OH和‑O‑C(＝O)‑CH3，其中n’等于1、2、3或4),(VII)(其中Ra为H或C‑1至C‑4烷基基团),(VIII),(IX)(其中Rb为C‑1至C‑18烷基基团),(X)和(XI)组成的组，或为选自该组的至少两种有机溶剂的混合物。本发明还涉及含有表面活性剂组分的这种组合物，以及涉及使用这些组合物作为抗蚀剂去除剂的方法二丙二醇单甲基醚(III),
光致抗蚀剂去除组合

[发明专利]用于自组装的模板和制造自组装图案的方法-CN201480024799.6有效
发明人：金志勋;完京秀;宫崎真治;林观阳;吴恒鹏 -专利权人： AZ电子材料卢森堡有限公司
申请日： 2014-05-09 - 公布日： 2019-09-27 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本文中公开和要求保护的是用于定向嵌段共聚物膜中的图案的模板和制造该图案的方法。
用于组装模板制造图案方法

[发明专利]用于定向自组装应用的含硅嵌段共聚物-CN201580057241.2有效
发明人： 吴恒鹏;殷建;林观阳;金志勋;M·波内斯丘 -专利权人： AZ电子材料卢森堡有限公司
申请日： 2015-10-28 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： C08F297/02 文献下载
摘要：本发明涉及包含重复单元(1)和重复单元(2)的新型二嵌段共聚物，其中R₁为氢或C₁‑C₄烷基，R₂选自氢、C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄烷氧基和卤素，R₃选自氢、C₁‑C₄烷基和C₁‑C₄氟代烷基，并且R₄、R₅、R₆、R₇、R₈、R₉、R₁₀、R₁₁和R₁₂独立地选自C₁‑C₄烷基并且n＝1‑6。本发明还涉及包含所述新型聚合物和溶剂的新型组合物。本发明还涉及使用所述新型组合物实现嵌段共聚物的定向自组装的方法。
用于定向组装应用含硅嵌段共聚物

[发明专利]包含聚合热酸发生剂的组合物及其方法-CN201480024795.8有效
发明人： 吴恒鹏;洪圣恩;曹毅;殷建;M·鲍内斯库;M·迪亚加拉詹 -专利权人： AZ电子材料卢森堡有限公司
申请日： 2014-05-15 - 公布日： 2018-07-10 - 主分类号： C08F220/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种新的包含聚合热酸发生剂的含水组合物和将该新的组合物涂覆到光致抗蚀剂图案上，由此在该光致抗蚀剂图案上形成聚合热酸发生剂层的方法。该聚合热酸发生剂包含具有至少一种结构2的重复单元的聚合物：其中R1‑R5独立地选自H和C1‑C6烷基；R6选自未取代的芳基、取代的芳基、烷基(C1‑C8)和氟烷基(C1‑C8)，和W是C2‑C6亚烷基间隔基团。
酸发生剂聚合热光致抗蚀剂图案烷基芳基含水组合物组合物涂覆间隔基团聚合物氟烷基亚烷基

[发明专利]用于嵌段共聚物自组装的组合物和方法-CN201680058211.8在审
发明人：金志勋;殷建;吴恒鹏;单槛会;林观阳 -专利权人： AZ电子材料卢森堡有限公司
申请日： 2016-10-13 - 公布日： 2018-06-08 - 主分类号： B82Y10/00 文献下载
摘要：本发明涉及含有可交联和可接枝部分的新型共聚物，包含这些新型共聚物和溶剂的新型组合物，以及使用这些新型组合物在基底上形成交联和接枝的中性层膜的方法，该新型组合物用于在该中性层涂覆的基底上配向嵌段共聚物(BCP)的微结构域的方法中，例如自组装和定向自组装。该新型组合物包含至少一种含有至少一个结构(1)的单元、至少一个结构(2)的单元、至少一个结构(3)的单元，一个端基和一个具有结构(1')的端基的新型无规共聚物；其中R₁选自C₁‑C₈烷基、C₂‑C₈氟烷基、C₄‑C₈部分氟代的烷基部分、C₄‑C₈环烷基、C₄‑C₈环氟烷基、C₄‑C₈部分氟代的环烷基和C₂‑C₈羟基烷基；R₂、R₃和R₅独立地选自H、C₁‑C₄烷基、CF₃和F；R₄选自H、C₁‑C₈烷基、C₁‑C₈部分氟代的烷基部分和d‑C‑e氟烷基，n的范围为1至5，R₆选自H、F、d‑C‑e烷基和d‑C‑e氟烷基，m的范围为1至3，并且n'的范围为1至5，并且n”的范围为1至5，n”'的范围为1至5，R₇为C₁至C₈烷基和X是‑CN或烷氧基羰基部分R₈‑O‑(C＝O)‑，其中Re是C₁‑C₈烷基并且表示端基与聚合物的连接点。该新型聚合物，组合物和方法可用于制造电子器件。
烷基新型组合氟烷基自组装端基氟代嵌段共聚物新型共聚物环烷基中性层基底接枝烷氧基羰基无规共聚物新型聚合物电子器件羟基烷基聚合物可交联连接点微结构交联可用配向溶剂涂覆制造

[发明专利]用于促进自组装的底层组合物及制造与使用方法-CN201480051160.7有效
发明人： 吴恒鹏;殷建;林观阳;金志勋;单槛会 -专利权人： AZ电子材料卢森堡有限公司
申请日： 2014-09-24 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： C08F220/14 文献下载
摘要：本文中公开的是用于沉积促进自组装结构形成的固化底层的制剂。该底层包含(a)包含至少一种具有结构(I)的侧位乙烯基醚单体重复单元的聚合物其中R选自H、C1‑C4烷基或卤素，并且W是选自C1‑C6亚烷基、C6‑C20亚芳基、亚苄基或C2‑C20亚烷基氧基亚烷基的二价基团；(ii)任选的热生酸剂；和(c)溶剂。本发明还涉及使用该底层形成图案的方法。
用于促进组装底层组合制造使用方法

[实用新型]破乳剂反应釜的进料系统-CN201520588381.X有效
发明人：崔黎黎;熊国辉;慕生一;岳振涛;吴恒鹏 -专利权人：胜利油田胜利化工有限责任公司
申请日： 2015-08-06 - 公布日： 2016-01-06 - 主分类号： B01J19/00 文献下载
摘要：本实用新型属于化工设备领域，涉及破乳剂，尤其涉及一种破乳剂反应釜的进料系统。包括破乳剂反应釜以及与破乳剂反应釜相连通的交联剂罐，所述破乳剂反应釜与交联剂罐之间通过管道连接，所述管道设置有柱塞泵。与现有技术相比，本实用新型的优点和积极效果在于,本实用新型通过改变传统的输送方式，从原有的氮气输送改变为现有的机械输送，利用柱塞泵的优良特性，有效的确保了交联剂的输送速度，从而保证了破乳剂产品的稳定性。
乳剂反应进料系统

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