专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于随机森林算法的细胞骨架参数测试技术-CN202310575780.1在审
  • 许红梅;孙浩;郑越;王作斌;宋正勋;刘兰娇;曲英敏 - 长春理工大学
  • 2023-05-22 - 2023-08-04 - G01N21/84
  • 本发明公开了一种基于随机森林算法的细胞骨架参数测试技术,使用改造的培养皿对细胞进行培养,当皿中的细胞不断增殖,直至铺满培养皿底部面积的60%时,使用AFM对选定的实验细胞的位置进行标记,并得到实验细胞的力学参数及形貌参数,同时使用Tubulin‑tackerRed以及Action‑TrackerGreen对选定的实验细胞的细胞骨架进行染色,得到细胞的微丝荧光强度及微管荧光强度,以此作为细胞骨架参数。利用随机森林算法根据选定的细胞的力学参数及形貌参数对骨架参数进行回归预测。本发明的有益效果是可以快速获取细胞的骨架参数,节约经济与时间成本,并且在使用AFM进行细胞形貌参数及力学参数的检测过程中,对细胞无毒、无损伤。在检测结束后,细胞仍然具有活性,可用于其它检测。
  • 一种基于随机森林算法细胞骨架参数测试技术
  • [实用新型]一种激光干涉光刻光学系统-CN201621258961.3有效
  • 翁占坤;王朝阳;曹亮;王璐;董莉彤;王作斌;宋正勋;许红梅;刘兰娇;李理 - 长春理工大学
  • 2016-11-23 - 2017-10-13 - G03F7/20
  • 一种激光干涉光刻光学系统涉及激光干涉光刻加工技术领域,解决了现有技术中光学平台搭建复杂,易受到外界干扰,灵活度不高的问题。该系统包括至少一个分光镜、至少一个反射镜A、多个反射镜B、至少两个柔性光学铰链、至少两个半波片和至少两个偏光镜;柔性光学铰链由导光管和关节组成,每两个导光管通过一个关节连接;每个关节内部设置一个反射镜B;每个柔性光学铰链的出口内设置一个半波片,每个出口外设置一个偏振镜;本实用新型激光束经分光镜分光后,再经全反射镜反射并耦合进入光学铰链,经光学铰链末端输出。该技术减小了设备的面积,减少能量的损耗,避免对繁杂光路的调整和潜在的外界干扰,方便非专业人员进行激光干涉加工操作。
  • 一种激光干涉光刻光学系统
  • [发明专利]一种激光干涉光刻光学系统-CN201611037444.8在审
  • 翁占坤;王朝阳;曹亮;王璐;董莉彤;王作斌;宋正勋;许红梅;刘兰娇;李理 - 长春理工大学
  • 2016-11-23 - 2017-01-25 - G03F7/20
  • 一种激光干涉光刻光学系统涉及激光干涉光刻加工技术领域,解决了现有技术中光学平台搭建复杂,易受到外界干扰,灵活度不高的问题。该系统包括至少一个分光镜、至少一个反射镜A、多个反射镜B、至少两个柔性光学铰链、至少两个半波片和至少两个偏光镜;柔性光学铰链由导光管和关节组成,每两个导光管通过一个关节连接;每个关节内部设置一个反射镜B;每个柔性光学铰链的出口内设置一个半波片,每个出口外设置一个偏振镜;本发明激光束经分光镜分光后,再经全反射镜反射并耦合进入光学铰链,经光学铰链末端输出。该技术减小了设备的面积,减少能量的损耗,避免对繁杂光路的调整和潜在的外界干扰,方便非专业人员进行激光干涉加工操作。
  • 一种激光干涉光刻光学系统
  • [发明专利]激光干涉纳米光刻中光束入射姿态检测及校准的方法和系统-CN201010511168.0有效
  • 宋浩;王作斌;徐佳;翁占坤;宋正勋;胡贞;刘兰娇 - 长春理工大学
  • 2010-10-19 - 2011-05-04 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种在激光干涉纳米光刻中对光束入射姿态进行检测及校准的方法,其特征在于:在激光干涉纳米光刻中,使用CCD检测每束激光在光刻样品表面形成的光斑并进行计算机图像处理,通过光斑的形状、位置等参数来确定激光束相对于光刻样品表面的入射姿态,包括入射位置、入射角及空间角,并通过和理想入射姿态对比确定入射姿态误差。使用系统的调节装置对光束入射姿态进行相应的校准。在这种方法中,使用CCD检测光斑,计算机处理并确定多束光入射姿态,因此可以精确地检测到激光束相对于光刻样品表面的入射位置、入射角及空间角,使得入射光校准能够保证最终的光刻图案及曝光面积符合设计。该方法安装/操作简单、检测/校准快速,有利于激光干涉纳米光刻在工业生产中的应用。
  • 激光干涉纳米光刻光束入射姿态检测校准方法系统
  • [发明专利]一种在激光干涉光刻中实现相移的方法和系统-CN201010287019.0有效
  • 张薇;王作斌;徐佳;刘兰娇;侯煜;潘海艳;宋浩;刘洋;翁占坤;宋正勋;胡贞 - 长春理工大学
  • 2010-09-20 - 2011-04-13 - G02B26/06
  • 本发明公开了一种采用移相定位系统在激光干涉纳米光刻中移相的方法。其特征在于在两光束或多光束激光干涉光刻中,将两束或多束相干激光光束组合,发生干涉,通过控制一个或多个移相定位系统使光路的光程发生改变,实现干涉图形的相位移动及定位。在这种方法中,移相定位系统由电压源、位移驱动器和反射镜组成,通过给位移驱动器施加不同的电压,使反射镜也沿着它的轴向方向移动,实现相位移动及定位。移相定位系统也可通过电压源电压的改变,在与入射光垂直平面方向推动一个光楔,或通过电压源电压的变化,在与入射光垂直平面方向控制一个液晶显示器件(LCD),或通过电压源电压的变化,控制一个驱动器拉伸光纤实现干涉图形的相移。这种移相的方法可以通过检测干涉图形的相位差,采用反馈(如锁相)控制干涉图形的相位移动,减少相位漂移使图案定位更精确。
  • 一种激光干涉光刻实现相移方法系统

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