专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于光通量约束的随机编码混合光栅-CN201510066327.3有效
  • 杨甬英;凌曈;岳秀梅;刘东 - 浙江大学
  • 2015-02-09 - 2017-05-03 - G02B5/18
  • 本发明公开了一种基于光通量约束的随机编码混合光栅。本发明包括不透明掩膜S2和透明基底S1;掩膜S2覆盖在基底S1上的部分区域,使得光栅上每个面积为S的正方形区域的光通量满足分布,其中为所述随机编码混合光栅的栅距,并且在各个面积为S的正方形区域内掩膜区块呈随机排布;另对基底S1上范围内且无掩膜覆盖区域的基底加以刻蚀,所述刻蚀深度使得通过刻蚀区域透光部分的光波相对于未刻蚀基底透光部分的光波超前π相位。本发明一方面省略了传统交叉光栅四波前横向剪切干涉中的级次选择窗口,简化系统结构的同时提高了系统稳定性,另一方面在形成的四波前横向剪切干涉图中也减少了其他衍射级次的干扰,提高了对待测波前的检测精度。
  • 一种基于光通量约束随机编码混合光栅
  • [发明专利]精密表面缺陷散射三维显微成像装置-CN201410294723.7有效
  • 杨甬英;刘东;凌曈;李璐;岳秀梅 - 浙江大学
  • 2014-06-26 - 2014-09-24 - G01N21/01
  • 本发明公开了一种精密表面缺陷散射三维显微成像装置。本发明包括光源、光束准直系统、光栅、移相压电陶瓷、移相驱动器、电动旋转台、伺服电机驱动器、投影物镜、偏振分光镜、显微物镜、Z向扫描压电陶瓷、Z向扫描驱动器、待测样品、成像透镜、探测器和计算机;光栅置于电动旋转台中心,移相压电陶瓷通过移相驱动器与计算机相连接,电动旋转台通过伺服电机驱动器与计算机相连接,Z向扫描压电陶瓷通过Z向扫描驱动器与计算机相连接;光源、光束准直系统、光栅、投影物镜、偏振分光镜、显微物镜以及待测样品在条纹投影照明光路中顺序排列。本发明解决了普通显微镜无法获取疵病深度的问题,实现了对精密表面缺陷的暗场三维显微成像。
  • 精密表面缺陷散射三维显微成像装置
  • [发明专利]中心遮挡情况下的大口径偏折型径向剪切干涉检测装置及其方法-CN201210121717.2有效
  • 杨甬英;凌曈;田超;孙磊;卓永模 - 浙江大学
  • 2012-04-24 - 2012-08-22 - G01M9/06
  • 本发明公开了一种中心遮挡情况下的大口径偏折型径向剪切干涉检测装置及其方法。本发明的技术特点是在传统径向剪切干涉检测方法的基础上,通过提高望远镜系统的剪切率,并利用反射镜在竖直方向的倾斜将缩束光斑移至扩束光斑的边缘区域,使缩束光斑脱离扩束光斑中因目标物遮挡所形成的阴影处形成干涉,实现了有目标物中心遮挡情况下对特定空间区域的径向剪切干涉检测。本发明的优点在于解决了采用传统径向剪切干涉方法无法对含有目标物中心遮挡的区域进行波前检测的难题,同时,由于干涉区域移至扩束光斑边缘,使得干涉图的处理可以采用较为简单的相位解包方法,而非径向剪切波面迭代重构,在一定程度上简化了干涉图的处理过程,缩短了处理时间。
  • 中心遮挡情况口径偏折型径向剪切干涉检测装置及其方法

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