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[发明专利]衬底洗净装置、衬底洗净系统、衬底处理系统、衬底洗净方法及衬底处理方法-CN202210854232.8在审
发明人：冲田展彬;石井淳一;中村一树;筱原敬;冈田吉文;筱原智之;髙桥拓马 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-07-14 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底洗净装置、衬底洗净系统、衬底处理系统、衬底洗净方法及衬底处理方法。上侧保持装置将衬底以水平姿势保持且不使它旋转。下侧保持装置吸附保持衬底且使它旋转。使用洗净液洗净由上侧保持装置保持的衬底，使用洗净液洗净由下侧保持装置保持的衬底。处理空间的气体通过排气系统由工场的排气设备排出。在由上侧保持装置保持衬底时，不排出处理空间的气体或者以第1流量排出所述处理空间的气体。在由下侧保持装置保持衬底时，以高于第1流量的第2或第3流量排出处理空间的气体。
衬底洗净装置系统处理方法

[发明专利]衬底对位装置、衬底处理装置、衬底对位方法及衬底处理方法-CN202210790732.X在审
发明人：冲田展彬;筱原智之;石井淳一;中村一树;筱原敬;髙桥拓马;冈田吉文;加藤洋 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-07-05 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底对位装置、衬底处理装置、衬底对位方法及衬底处理方法。衬底对位装置包含以俯视下相互对向的方式且分开的方式配置，分别从衬底的下方位置支撑衬底的外周端部的第1支撑部件及第2支撑部件。另外，衬底对位装置具备：第1按压部件，以俯视下与第1支撑部件对向的方式配置，在衬底由第1及第2支撑部件支撑的状态下，在从第2支撑部件朝向第1支撑部件的第1方向按压所述衬底的外周端部的一部分，由此使衬底移动。第1支撑部件包含限制衬底超过预先确定的规定位置向第1方向移动的移动限制部。
衬底对位装置处理方法

[发明专利]衬底洗净装置及衬底洗净方法-CN202210773648.7在审
发明人：筱原智之;石井淳一;中村一树;冈田吉文;髙桥拓马;筱原敬;冲田展彬 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-07-01 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。通过将洗净工具接触于由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域来将下表面中央区域洗净。通过将洗净工具接触于由第2保持部旋转的衬底的下表面外侧区域来将衬底的下表面外侧区域洗净。在下表面中央区域的洗净时，在不保持衬底的状态下使第2保持部绕铅直轴旋转。或，在下表面中央区域的洗净时，通过配置在洗净工具与第2保持部之间的气体喷出部从只离开衬底特定距离的第1高度向衬底喷出气体，且在下表面中央区域的干燥时，通过气体喷出部从比第1高度更接近衬底的第2高度向衬底喷出气体。
衬底洗净装置方法

[发明专利]衬底洗净装置及衬底洗净方法-CN202210719627.7在审
发明人：筱原智之;中村一树;冈田吉文;髙桥拓马;筱原敬;冲田展彬;石井淳一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。通过一边使洗净器具接触由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域，一边使洗净器具绕中心轴旋转，而将下表面中央区域洗净。使洗净器具接触通过第2保持部而旋转的衬底的下表面外侧区域，由此将下表面外侧区域洗净。以如下方式使设置着第2保持部及洗净器具的可动基座在水平面内移动，即，当在第1保持部与第2保持部之间交接衬底时，俯视下第1保持部的基准位置与第2保持部的中心轴一致，在对下表面中央区域进行洗净时，俯视下洗净器具与由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域重叠，且洗净器具的中心轴和衬底的与中心不同的第1部分一致。
衬底洗净装置方法

[发明专利]衬底清洗装置-CN202210659024.2在审
发明人：筱原智之;冈田吉文;冲田展彬;筱原敬;石井淳一;中村一树;髙桥拓马 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-06-10 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的衬底清洗装置包含衬底保持部、第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件。衬底保持部以水平姿势保持圆形状的衬底。第1清洗件在俯视时，以通过衬底外缘的第1点的方式在衬底的上方进行扫描，由此清洗衬底的上表面。第2清洗件在俯视时，通过接触于衬底外缘的第2点来清洗衬底的外周端部。定义通过第1点与第2点的假想性第1直线、及通过衬底的中心且与第1直线平行的假想性第2直线。第3清洗件配置在衬底的下方且隔着第2直线而与第1清洗件及第2清洗件相反的区域，清洗衬底的下表面。
衬底清洗装置

[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法-CN202111042513.5在审
发明人：筱原智之;冈田吉文;冲田展彬 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-09-07 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置包含衬底处理部与衬底搬送部。衬底处理部包含构成为能保持衬底的上侧保持装置及下侧保持装置。衬底处理部中，下侧保持装置设置在上侧保持装置的下方。因此，能由上侧保持装置保持衬底的高度位置，与能由下侧保持装置保持衬底的高度位置不同。衬底搬送部具有保持衬底的第1及第2手。第2手位于比第1手下方。由第1手进行对上侧保持装置移交或接收衬底。由第2手进行对下侧保持装置接收或移交衬底。
衬底处理装置方法

[发明专利]衬底洗净装置、衬底处理装置及衬底洗净方法-CN202111079496.2在审
发明人：筱原智之;冈田吉文;冲田展彬;加藤洋;筱原敬 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-09-15 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底洗净装置、衬底处理装置及衬底洗净方法。本发明的第1衬底保持部保持衬底的外周端部。第2衬底保持部在第1衬底保持部下方的位置吸附保持衬底的下表面中央区域。下表面刷在与利用第1衬底保持部保持的衬底的下表面接触的位置、与下表面刷与利用第2衬底保持部保持的衬底的下表面接触的位置之间升降。第2衬底保持部及下表面刷设置在能够在水平方向移动的可动台座上。可动台座在下表面刷与衬底的下表面外侧区域对向的位置、与下表面刷与衬底的下表面中央区域对向的位置之间移动。洗净利用第1衬底保持部保持的衬底的下表面中央区域。这时，衬底的高度位置高于处理杯的上端部。洗净利用第2衬底保持部保持的衬底的下表面外侧区域。这时，衬底的高度位置低于处理杯的上端部。
衬底洗净装置处理方法

[发明专利]衬底清洗装置及衬底清洗方法-CN202111092946.1在审
发明人： 冈田吉文 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-09-17 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底清洗装置及衬底清洗方法。在第1高度位置，通过上侧保持装置保持衬底的外周端部。在比第1高度位置更靠下方的第2高度位置，通过下侧保持装置吸附保持衬底的下表面中央区域，并使衬底绕铅直轴旋转。在第1高度位置与第2高度位置之间，通过交接装置搬送衬底。使清洗具升降，以与通过上侧保持装置或下侧保持装置而保持的衬底的下表面接触，通过清洗具清洗衬底的下表面中央区域、或包围下表面中央区域的下表面外侧区域。若发生异常时，判定衬底位于第1高度位置，则利用气体喷出部向通过上侧保持装置而保持的衬底的下表面中央区域供给气体。
衬底清洗装置方法

[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法-CN202111094534.1在审
发明人： 冈田吉文 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-09-17 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。主机器人的机械手进入到处理单元。将由机械手保持的处理前的衬底交递到处理单元的搬入位置。在将处理前的衬底交递到搬入位置之后，利用机械手从处理单元的搬出位置接收处理后的衬底。在从搬出位置接收处理后的衬底之后，使机械手从处理单元退出。利用处理单元对处理前的衬底进行处理。
衬底处理装置方法

[发明专利]基板搬运方法及基板处理装置-CN201710699417.5有效
发明人： 冈田吉文 -专利权人：斯克林集团公司
申请日： 2014-11-21 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置中的基板搬运方法，该基板处理装置具有中转部、能够从该中转部搬出基板或向该中转部搬入基板的中央机械手、能够供该中央机械手搬入搬出基板的多个处理单元，该基板搬运方法具有：决定中转部能够同时保持的基板的张数的工序、决定中央机械手能够同时搬运的基板的张数的工序、基于用于决定基板处理装置内部的各个基板的搬运内容的流程规则信息来决定多个处理单元中能够进行并行的处理的处理单元的数量的工序、制作汇总了中央机械手的动作时间表、各处理单元的基板处理时间表的时间表数据的工序、根据时间表数据进行中转部及多个处理单元与中央机械手之间的基板的交接动作和基板处理装置整体的基板处理动作的工序。
搬运方法处理装置

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201510087840.0有效
发明人： 冈田吉文 -专利权人：斯克林集团公司
申请日： 2015-02-25 - 公布日： 2018-04-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理方法及装置，在利用能并行使用的多个基板处理单元进行基板处理的情况下，不使由基板处理单元处理后的基板等待从被基板处理单元搬出的等待搬出时间变长。以不使由基板处理单元处理后的基板，等待被基板搬运部从基板处理单元搬出的时间超过允许时间的方式，从多个基板处理单元中选择并行使用的两个以上的基板处理单元。制作基板处理的基板处理管理表，该基板处理包括通过基板搬运部向两个以上的基板处理单元搬运基板的基板搬运处理、在两个以上的基板处理单元中的基板处理、通过基板搬运部从两个以上的基板处理单元搬出基板的基板搬出处理。根据该基板处理管理表来控制基板处理单元和基板搬运部，依次对多个基板进行基板处理。
处理方法以及装置

[发明专利]基板搬运方法及基板处理装置-CN201410676179.2在审
发明人： 冈田吉文 -专利权人：斯克林集团公司
申请日： 2014-11-21 - 公布日： 2015-05-27 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供一种能够提高基板处理装置的生产率的技术。通过基板搬运部能够同时从处理段或向该处理段搬运N张基板，该处理段能够同时保持M张基板，该M为由2以上的整数M规定的数，该N为由不是整数M的约数的2以上的整数N规定的数，由此，在1～N的整数k所规定的N个变量ik分别为0以上且M/N以下的任意的整数，并且满足M＝N×i1+……+1×iN的关系时，反复执行基板搬运循环，在该基板搬运循环中执行将基板搬运步骤进行ik次的搬运工序，在该基板搬运步骤中，通过基板搬运部从处理段或向该处理段同时搬运N-k+1张基板，基板搬运步骤的次数由N个变量ik中的作为自然数的各变量规定。
搬运方法处理装置

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