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[发明专利]基板处理装置和基板运送方法-CN201710832688.3有效
发明人： 佐佐木勇治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-09-15 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置和基板运送方法。其中，基板搬送区域以基板露出的方式进行搬送；基板保管器搬送区域将基板保持在基板保管器内进行搬送；基板保管器保管架在基板保管器搬送区域内保管基板保管器；第一吹扫气体供给单元能够向被保管于基板保管器保管架的基板保管器供给吹扫气体；累计流量获取单元获取供给到基板保管器的吹扫气体的累计流量；运送载置部；第二吹扫气体供给单元向被载置于运送载置部的基板保管器供给吹扫气体；基板运送单元打开基板保管器，将基板运送到基板搬送区域内；以及控制单元基于吹扫气体的累计流量计算基板保管器内部的氧浓度，在氧浓度变为阈值以下时，使基板运送单元将基板运送到基板搬送区域。
处理装置运送方法

[发明专利]基片处理装置和吹扫方法-CN201910826373.7在审
发明人：木下盛善;佐佐木勇治;佐藤淳一;浅川贵志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-09-03 - 公布日： 2020-03-13 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明涉及基片处理装置和吹扫方法。本发明的一个方式的基片处理装置包括：承载器保管架，其载置收纳基片的承载器；气体供给部，其对载置于上述承载器保管架的上述承载器内供给非活性气体；和控制部，其基于承载器信息、基片信息中至少任意者，控制是否对上述承载器内供给上述非活性气体。本发明能够减少非活性气体的使用量。
处理装置方法