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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]帧数据制作装置、制作方法、制作程序及存储该程序的存储介质、及描绘装置-CN200680022797.9无效
发明人： 中谷大辅;植村隆之 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-06-21 - 公布日： 2008-06-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种制作帧数据的装置，上述帧数据用于通过使排列有多个描绘元件群的空间光调制元件在扫描方向上移动、且根据该移动将帧数据输入到空间光调制元件形成图像时，其中，根据在和上述扫描方向对应的副扫描方向以及与该副扫描方向垂直的主扫描方向上将像素数据二维状配置的图像数据，制作帧数据时，分别检测出描绘元件群(圆1～圆24)的至少一部分描绘元件的描绘点的位置，根据检测出的各描绘点的位置制作帧数据。
帧数制作装置制作方法程序存储介质描绘

[发明专利]帧数据生成方法及装置以及帧数据生成程序、描绘方法及装置-CN200680001958.6无效
发明人： 中谷大辅;城后尚纯;植村隆之;山本千季 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-01-06 - 公布日： 2008-01-09 - 主分类号： B41J2/46 文献下载
摘要：一种帧数据生成方法，是使排列有多个描绘元件群的空间光调制元件在与描绘元件群的排列方向成倾斜角θ的扫描方向上移动，并且对应于该移动将帧数据输入到空间光调制元件形成图像时使用的生成上述帧数据的方法，根据沿着与所述扫描方向对应的副扫描方向及与该副扫描方向正交的主扫描方向二维状配置像素数据的图像数据生成帧数据，其中，对所述图像数据实施变形处理，使得与所述描绘元件群(圈1～圈6)对应的像素数据沿着所述主扫描方向排列，根据该变形处理结束图像数据生成帧数据。
帧数生成方法装置以及程序描绘

[发明专利]描绘头及其调整方法、描绘方法-CN200610009464.4无效
发明人： 中谷大辅;尾崎多可雄;石川弘美 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2003-12-02 - 公布日： 2006-09-06 - 主分类号： B41J2/435 文献下载
摘要：本发明提供一种不会导致成本提高，可以得到高分辨率并且无斑点的图像的描绘头及其调整方法、描绘方法。在曝光范围的实际的倾斜角θ’偏离理想的倾斜角的情况下，列方向的使用像素数对应实际的倾斜角θ’变更并进行图像记录，从而在将间距的偏离控制在一定范围内。
描绘及其调整方法

[发明专利]光量调节方法及装置-CN200410076850.6无效
发明人：清水敦子;角克人;中谷大辅 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2004-09-08 - 公布日： 2005-03-16 - 主分类号： G03B27/22 文献下载
摘要：一种光量调节方法及装置，由受光部(20)接受具有使感光材料(1)的曝光水平达到预先决定的、所规定的一定曝光水平的光量与波长的关系的光，在输出波长存储部(40)中储存这时的、从受光部(20)输出的输出值与所述光的波长的关系。另外，将从激光照射部(10A、10B)…射出的激光的波长和所述各激光照射部(10A、10B)…之间的对应关系储存在光源波长存储部(45)中。光量调节部(30)，参照所述输出波长存储部(40)以及光源波长存储部(45)，对各激光的光量进行调节，使得由受光部(20)分别接受从各激光照射部(10A、10B)…射出的各激光并使从受光部(20)输出各输出值满足所述输出值与波长的关系。
调节方法装置

[发明专利]绘图方法以及绘图装置-CN200410071663.9无效
发明人： 中谷大辅;藤井武;下山裕司 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2004-07-21 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： B41J2/47 文献下载
摘要：本发明只使用沿着DMD(50)的扫描方向的768列的微镜中的192列，且将该192列分割成5个区域(区域1～5)，顺次从区域1向区域5传送控制信号，同时从传送结束了的区域开始顺次进行微镜的复位，从而能够在使具有排列有多列根据所输入的控制信号调制入射光的微镜的空间光调制器件的曝光头，沿着曝光面在扫描方向上相对移动而进行曝光的曝光装置中，缩短空间光调制器件的更新时间。
绘图方法以及装置

[发明专利]图形制造系统、曝光装置及曝光方法-CN200410058860.7无效
发明人：森田清辉;菅沼敦;中谷大辅;泽野充 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2004-08-02 - 公布日： 2005-02-16 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种图形制造系统、曝光装置及曝光方法，利用由加工用图形数据(100)指定的图形线的线宽与曝光量，对涂覆于基板上的铜箔上的抗蚀剂进行直接描绘曝光，再对曝光过的抗蚀剂进行显影来形成抗蚀图形，然后，蚀刻形成有抗蚀图形的基板上的铜箔来形成图形。这时，扫描蚀刻后的形成图形得到图像信息(200)，再对图像信息(200)的图形线的线宽与蚀刻后的目标的目标形成图形的图形线的线宽进行比较，根据该比较结果来调整由加工用图形数据(100)指定的图形线的线宽，再对使用调整过的线宽直接描绘抗蚀剂。因此，调整蚀刻液的劣化等的图形线的线宽的成品误差来形成图形而可得到精度高的成品。
图形制造系统曝光装置方法

[发明专利]图像记录装置、图像记录方法及程序-CN200410063421.5无效
发明人： 中谷大辅;片山彻 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2004-07-01 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： H05K3/46 文献下载
摘要：本发明提供一种图像记录装置、图像记录方法以及程序。由照相机(164)获取表示预先设置在PWB(150)上的多个定位孔(150A)的各个位置的位置信息，根据该位置信息，将PWB(150)中的布线图案图像的记录区域虚拟地分割成多个四边形区域，在每个分割区域中，为了将记录的布线图案图像与假定在PWB(150)上没有变形时所对应的分割区域上记录的图像进行匹配而变换表示该图像的光栅数据，根据变换后的光栅数据，由记录头(162)将该图像记录到PWB(150)上。由此，即使在记录介质变形成任意形状的情况下，也可以高精度地补正图像的记录位置偏移。
图像记录装置方法程序

[发明专利]图像记录方法及图像记录装置-CN200410063212.0无效
发明人：植村隆之;中谷大辅;藤井武 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2004-06-30 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： H04N1/04 文献下载
摘要：本发明提供一种利用在与扫描方向交叉的方向排列多个记录元件单元而构成的记录头记录图像时，即使在各记录元件单元的光学倍率上产生误差，也不用机械的调整机构，就能修正图像记录位置的偏移的图像记录方法及装置。由于利用光量监视器(50)的计测，预先识别记录元件单元(166)的光学系统的物理上的机械误差、组装时的误差、环境温度或湿度的时效所引起的光学倍率的变动，根据该变位量，在扫描方向上修正图像记录开始定时，在与扫描方向正交的方向上变更分辨率，而维持标准倍率时的图像的位置，所以不具有旋转移动调整记录元件单元(166)的复杂调整机构，就可以消除相对感光材料(150)的图像记录位置偏移。
图像记录方法装置

[发明专利]描绘装置和描绘方法-CN200410071366.4无效
发明人：下山裕司;藤井武;中谷大辅 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2004-07-20 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： H04N1/195 文献下载
摘要：当曝光倍率具有小数点以下的数值时，在副扫描方向Y上相邻的像素彼此不排列在副扫描方向Y上，在扫描方向X上错开。例如，由微反射镜(62A)曝光的像素A和由微反射镜(62B)曝光的像素B只错开Z。而且，一个跳跃的像素A、C、E…排列在副扫描线L1上，一个跳跃的像素B、D、F…排列在副扫描线L2上。即一个跳跃的像素排列在副扫描方向Y上。副扫描线L1和L2的间距为1μm。因此，在扫描方向X上，能进行最小单位为1μm的图像形成。提供不用减慢扫描速度或提高描绘元件群的调制速度，就可以提高扫描方向的分辨率的描绘装置和描绘方法。
描绘装置方法

[发明专利]绘图头单元、绘图装置及绘图方法-CN200410002577.2有效
发明人： 中谷大辅;藤井武;角克人;尾崎多可雄 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2004-01-30 - 公布日： 2004-08-11 - 主分类号： H04N1/19 文献下载
摘要：本发明涉及绘图单元、绘图装置及绘图方法。课题在于用多个绘图头能消除扫描方向的放大率误差，而且获得还能进行扫描方向的总体放大率变换的绘图头单元、绘图装置及绘图方法。至少沿扫描方向配置多个曝光头166，构成曝光头单元165。通过对每个曝光头166变更像素的更新时序，修正曝光头166之间的扫描方向的放大率误差。
绘图单元装置方法

[发明专利]描绘头、描绘装置及描绘方法-CN200310116949.X有效
发明人： 中谷大辅;尾崎多可雄;石川弘美 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2003-12-02 - 公布日： 2004-07-07 - 主分类号： H04N1/195 文献下载
摘要：本发明提供一种不会导致成本提高，可以得到高分辨率并且无斑点的图像的图像记录头及图像记录装置。在曝光范围的实际的倾斜角θ’偏离理想的倾斜角的情况下，列方向的使用像素数对应实际的倾斜角θ’变更并进行图像记录，从而在将间距的偏离控制在一定范围内。
描绘装置方法

[发明专利]光布线电路制造方法及具有该光布线电路的光布线基板-CN03141105.3无效
发明人： 中谷大辅;藤井武;冈崎洋二;永野和彦;石川弘美 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2003-06-06 - 公布日： 2004-01-14 - 主分类号： G02B6/12 文献下载
摘要：一种光布线基板的制造方法，用根据图像信息通过空间光调制元件调制的光束进行图像曝光的曝光装置，通过所述光束(UV)对在作为光布线基板材料的芯层上涂布的感光材料(光致抗蚀剂)的规定区域进行曝光并图形化形成蚀刻掩模。与在芯层的端部上形成的倾斜面对应的区域，通过根据倾斜面的倾斜形状控制曝光量的光束进行曝光并图形化，将蚀刻掩模的端部作为斜面结构。一旦通过该蚀刻掩模对芯层进行蚀刻加工，在芯层的端部就进行与蚀刻掩模的膜厚成比例地加工，从而形成倾斜面。根据本发明，通过无掩模曝光易于形成构成光波导路的芯层的端部上设置的倾斜面形状。
布线电路制造方法具有

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