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[发明专利]一种阵列基板以及显示面板-CN201910340079.5有效
发明人： 严茂程 -专利权人：上海中航光电子有限公司
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，公开了一种阵列基板以及显示面板，该阵列基板包括：衬底和形成于衬底上的栅线、数据线、像素电极、与像素电极电连接的晶体管，其中：像素电极包括主体部和至少一个突出部，突出部包括第一区域，且在第一方向和/或第二方向上，第一区域内的突出部的宽度小于等于8μm；第一方向与栅线的延伸方向相同，第二方向与数据线的延伸方向相同。本发明提供的阵列基板在像素电极处设置突出部，可通过突出部导出晶体管聚集的静电电荷，从而较好的提升产品的抗静电能力，减少静电击穿现象的发生，减少诱发静电相关设备备品备件更换频率，降低生产成本。
一种阵列以及显示面板

[发明专利]一种低温多晶硅的制备方法及微波加热设备-CN201811367000.X有效
发明人： 严茂程 -专利权人：上海中航光电子有限公司
申请日： 2018-11-16 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种低温多晶硅制备方法及微波加热设备。其中，该低温多晶硅的制备方法包括：提供一基板；在所述基板的一侧形成非晶硅层；进行微波加热，将所述非晶硅层晶化为多晶硅层；其中，在所述基板的一侧形成非晶硅层之前，和/或，在所述基板的一侧形成非晶硅层之后以及在进行微波加热将所述非晶硅层晶化为多晶硅层之前，还包括：形成晶化诱导膜。本发明实施例提供的低温多晶硅制备方法和微波加热设备，可以解决常规多晶硅退火工艺晶化均一性低，工艺难度大，产品良率低的问题，使多晶硅制备温度有效降低，晶粒也更加均匀，同时，可以降低制备工艺难度和设备成本，获得成本更低、品质更高且良率更高的多晶硅产品。
一种低温多晶制备方法微波加热设备

[发明专利]显示面板及显示装置-CN201710592804.9有效
发明人：李康;严茂程;秦丹丹;熊小三;周齐;张明天;金祥;仇玲珑;甘小鹏 -专利权人：上海中航光电子有限公司
申请日： 2017-07-19 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： G02F1/1339 文献下载
摘要：本申请公开显示面板及显示装置，其中显示面板包括：包括第一基板、第二基板以及设置于第一基板和第二基板之间的多个间隔柱；沿第一方向延伸并沿第二方向顺序排布的多条数据信号线、以及沿第一方向顺序排布并沿第二方向延伸的多条栅极线；在第一基板和第二基板之间还设置有与间隔柱对应的间隔柱垫枕，间隔柱垫枕包括高度相同的两个凸起部以及位于两个凸起部之间的凹槽；在第一基板上还设置有电极层和第一配向膜层，电极层包括依次设置的第一电极层、第一绝缘层和第二电极层；两个凸起部分别包括依次设置的第一电极层、第一绝缘层、至少一层衬垫层和第一配向膜层，衬垫层和第二电极层同层设置。如此，有效避免间隔柱与间隔柱垫枕接触时发生滑动。
显示面板显示装置

[发明专利]微波镀膜方法、母板和微波镀膜装置-CN201811364799.7在审
发明人： 严茂程 -专利权人：上海中航光电子有限公司
申请日： 2018-11-16 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种微波镀膜方法、母板和微波镀膜装置。微波镀膜方法，包括：提供母板，母板包括板体和图形化掩膜层，图形化掩膜层位于板体的一侧的表面，母板包括转印区和非转印区，图形化掩膜层覆盖的区域为非转印区，不被图形化掩膜层覆盖的区域为转印区；在板体远离图形化掩膜层的一侧涂覆镀膜原材；将基板置于与母板相对的位置，基板的待镀膜的一侧与镀膜原材相对；开启微波发生器，微波发生器位于母板远离基板的一侧。本发明能够简化镀膜工序、提高镀膜效率和成膜可靠性。
母板图形化掩膜层镀膜微波转印区板体基板微波发生器镀膜装置原材镀膜工序镀膜效率成膜覆盖涂覆

[发明专利]一种喷墨涂布装置及喷涂方法-CN201410135848.5有效
发明人： 严茂程 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2014-04-04 - 公布日： 2014-07-02 - 主分类号： B41J2/01 文献下载
摘要：本发明提供了一种喷墨涂布装置，用于在设有涂布间隔带的玻璃基板上喷涂油墨，其包括基台和喷头，所述基台用于放置玻璃基板，所述喷头包括若干个喷嘴，玻璃基板上布置有若干个平行排列的分割柱，分割柱之间形成涂布间隔带，所述喷嘴包括油墨入射口和油墨喷射口，所述油墨由油墨入射口引入，由油墨喷射口向玻璃基板喷射出，在涂布间隔带中形成不同颜色的油墨喷涂层，所述油墨喷射口的内径大于油墨入射口的内径。采用了喇叭状的喷嘴，相邻喷嘴之间无间隙，使得喷涂的油墨呈椭圆状，从而更均匀地分散于各个油墨间隔带中，形成厚度均一的油墨喷涂层，避免了残余喷墨聚集黏结于喷嘴的外表面上，保证了油墨的顺畅喷涂，从而提高了喷涂的效率和品质。
一种喷墨装置喷涂方法

[发明专利]配向膜干燥系统及干燥方法-CN201110206413.1有效
发明人： 严茂程 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2011-07-22 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明公开了一种配向膜干燥系统及干燥方法，所述配向膜干燥系统用于干燥涂布在一基板上的配向液，所述配向膜干燥系统包括磁控管，所述配向液涂布在所述基板朝向所述磁控管一侧，所述磁控管用于对所述配向液进行电磁波加热使所述配向液形成厚度一致的配向膜，保证了液晶显示器的显示效果。
干燥系统方法

[发明专利]涂布装置及涂布方法-CN201110371649.0无效
发明人： 严茂程 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2011-11-21 - 公布日： 2012-06-27 - 主分类号： G02F1/1341 文献下载
摘要：本发明涉及一种涂布装置，包括涂布平台、涂布吐出头以及控制所述涂布吐出头进行涂布操作的控制单元，控制单元与所述涂布吐出头连接，涂布装置还包括用于检查放置在所述涂布平台上的基板的涂布效果的图像传感器。本发明还涉及一种涂布方法，本发明的涂布装置及涂布方法通过设置图像传感器以及时发现涂布效果不良。
装置方法

[实用新型]配向膜干燥系统-CN201120261071.9有效
发明人： 严茂程 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2011-07-22 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种配向膜干燥系统，用于干燥涂布在一基板上的配向液，所述配向膜干燥系统包括用于对所述的配向液进行电磁波加热使所述配向液形成配向膜的磁控管，所述配向液涂布在所述基板朝向所述磁控管一侧，所述磁控管对所述配向液进行电磁波加热，使所述配向液形成厚度一致的配向膜，本实用新型保证了液晶显示器的显示效果。
干燥系统

[发明专利]大气压等离子装置及其制造方法-CN201110164519.X有效
发明人： 严茂程;施翔尹 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2011-06-17 - 公布日： 2012-01-25 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种大气压等离子装置及其制造方法。所述大气压等离子装置包括：阳极、阴极、以及设置于阳极与阴极之间的绝缘介质；阳极和阴极间填充有可电离的气体；阴极包括多个等离子产生与排除单元，每个等离子产生与排除单元包括均匀分布的相同的等离子排除区域和等离子产生区域，等离子排除区域和等离子产生区域均匀设置，并且，三个互为相邻的等离子排除区域之间，每两个等离子排除区域的中心间距相等。通过上述方式，本发明能够减轻等离子对阴极及绝缘介质的腐蚀，提高大气压等离子装置的寿命，另外，能够提高基板表面清洁均一性。
大气压等离子装置及其制造方法

[发明专利]器件承载装置-CN201110152913.1有效
发明人： 严茂程;施翔尹 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2011-06-08 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： H01J9/00 文献下载
摘要：本发明公开一种器件承载装置，包含：一承载台、一真空系统、一供气系统及一放电系统。所述承载台具有一承载面、一底面及至少一通孔，且所述通孔导通所述承载面及所述底面；所述真空系统提供一真空吸力至所述通孔；所述供气系统用以输出至少一种气体至所述通孔；所述放电系统对所述气体放电，使所述气体电离成一离子流体。因此，所述通孔可用以提供所述真空吸力以承载及吸引一器件；或用以在对所述器件解除真空时提供所述离子流体，以便更有效率、更均匀且更迅速的消除所述器件的表面的静电。
器件承载装置

[发明专利]配向膜干燥装置及干燥方法-CN201010557504.5无效
发明人：贺成明;严茂程;施翔尹 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2010-11-22 - 公布日： 2011-06-08 - 主分类号： B05D3/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种配向膜干燥装置及干燥方法，用于干燥形成在基板的一第一表面经溶剂稀释过的配向膜材料，所述装置包括：加热台，用于对基板的一第二表面进行加热，所述加热台上均匀分布若干气孔；周边支撑机构，设置于所述加热台四周，用于支撑所述基板的第二表面的边缘；若干支撑销，均匀分布于所述加热台的上表面内；以及升降机构，控制所述周边支撑机构和所述支撑销进行升降。本发明能够消除配向膜在干燥过程中的干燥不均现象，使配向膜质量达到最佳化，提高液晶面板显示特性，提升液晶面板的质量和合格率。
干燥装置方法

[发明专利]一种纳米二氧化钛光催化剂的制备方法-CN200410025755.3无效
发明人：张金龙;严茂程;陈锋;田宝柱;孙健 -专利权人：华东理工大学
申请日： 2004-07-05 - 公布日： 2005-03-16 - 主分类号： B01J21/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种纳米二氧化钛光催化剂的制备方法，特别涉及一种在低温下晶型可控纳米二氧化钛光催化剂的制备方法。利用微乳液水热合成法，其特征在于：将钛源在酸性微乳液中一定条件下水解，并通过调节水相中阴离子的配比，制得二氧化钛微乳液，然后转入带有聚四氟乙烯内衬的高压釜中进行水热破乳晶化，得到锐钛矿和金红石晶型比例可控二氧化钛光催化剂材料。
一种纳米氧化光催化剂制备方法

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