专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]纳米晶荧光体和被覆纳米晶荧光体及其制备方法-CN200710181160.0有效
  • 两轮达也;斋藤肇 - 夏普株式会社
  • 2007-10-12 - 2008-04-16 - C09K11/62
  • 本发明披露具有芯/壳结构的纳米晶荧光体,所述芯/壳结构由第13族氮化物半导体的芯和覆盖芯的壳层形成,所述壳层包括13族氮化物混晶半导体的壳膜。该纳米晶荧光体具有高的发光效率并具有优异的可靠性。本发明还披露被覆纳米晶荧光体,通过使改性有机分子与纳米晶荧光体结合和/或用改性有机分子被覆纳米晶荧光体制得该被覆纳米晶荧光体。该被覆纳米晶荧光体具有高的分散性。本发明还披露通过加热混合溶液制备被覆纳米晶荧光体的方法,所述混合溶液包含第13族氮化物半导体的芯、含氮化合物、含第13族元素的化合物和改性有机分子。
  • 纳米荧光被覆及其制备方法
  • [发明专利]荧光体、其制造方法及其应用-CN200680006387.5有效
  • 清水悦雄;吉野正彦;木岛直人 - 三菱化学株式会社
  • 2006-02-23 - 2008-02-20 - C09K11/62
  • 本发明涉及荧光体、其制造方法及其应用,所述荧光体的特征在于,所述荧光体含有以下述通式[1]表示的化学组成的结晶相,并且以在波长420nm~480nm的范围内具有峰值的光激发时,由下述式[2]计算出的发光强度的变化率的平均值为1.3以下。式[1]中,Ln表示选自由Y、Gd、Sc、Lu和La组成的组中的至少一种元素,M表示选自由Al、Ga和In组成的组中的至少一种元素,a、b分别为满足0.001≤a≤0.3、0≤b≤0.5的数。式[2]中,I(λ)为激发波长λnm处的荧光体的发光强度,I(λ+1)为激发波长(λ+1)nm处的荧光体的发光强度。(Ln1-a-bCeaTbb)3M5O12 ...[1]发光强度的变化率=[(I(λ+1)-I(λ))/I(λ)]2...[2]
  • 荧光制造方法及其应用
  • [发明专利]白色发光荧光体-CN02119849.7无效
  • 浜田拓哉;北川和典;土岐均 - 双叶电子工业株式会社
  • 2002-05-15 - 2002-12-18 - C09K11/62
  • 本发明提供镉含量低、白色的纯度及辉度高的白色发光荧光体。按0.2∶9.8-9.8∶0.2的比例范围混合ZnO∶Zn荧光体、和作为补偿青色成分的荧光体的ZnGa2O4荧光体,然后相对于所形成的混合荧光体,按照9.5∶0.5-5∶5的范围混合黄色系荧光体Zn0.4Cd0.6S∶Ag。将其安装在荧光显示管中,然后进行发光。空心圆表示的试料(2)-(4)、(6)-(8)、(10)、(11)、(14)和(15),在荧光显示管中得到荧光体白色发光之实用上良好的色度范围X=0.32±0.07,Y=0.36±0.07。
  • 白色发光荧光

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