[发明专利]在角质基层上形成交联杂合物质薄膜的化妆或皮肤用组合物无效

专利信息
申请号: 98803815.3 申请日: 1998-04-03
公开(公告)号: CN1251519A 公开(公告)日: 2000-04-26
发明(设计)人: 让·蒙代;费朗西斯·格扎维埃·坎;克莱芒·桑切斯 申请(专利权)人: 奥里尔股份有限公司
主分类号: A61K7/48 分类号: A61K7/48;A61K7/06;A61K7/00
代理公司: 隆天国际专利商标代理有限公司 代理人: 杨淑媛
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 角质 基层 形成 交联 物质 薄膜 化妆 皮肤 组合
【权利要求书】:

1.一种用于在角质基层上形成交联杂合物质涂层的化妆或皮肤用组合物,其特征在于,所述的组合物是一种溶胶/凝胶组合物,其是通过混合下列组分得到的:

(a)至少一种有机金属化合物;

(b)至少一种官能有机聚合物或所述聚合物的前体,或至少一种官能硅氧烷聚合物或所述聚合物的前体,后一种前体与(a)是不同的;

(c)用于水解有机金属化合物的足够量的水;及

(d)至少一种可任选的醇。

所述的涂层在性能上是非可逆的。

2.根据权利要求1的组合物,其特征在于,所述的金属有机化合物选自由下列物质组成的一类化合物:

(i)元素周期表中第1b至7b族、第8族或镧系的过渡金属氧化物;

(ii)铝、硼、硅、锡、钛、铈或钨的氧化物;及

(iii)磷酸酯。

3.根据权利要求1或2的组合物,其特征在于,所述的金属有机化合物选自由下列物质组成的一类化合物:

(1)与下式之一相应的烷基硅烷、钛酸烷基酯或锆酸烷基酯;

式中:

M代表Si、Ti或Zr;

n代表金属的化合价数;

R1代表直链或支链的C1-C30烷基,优选C1-C6烷基;

R和R’独自代表直链或支链的烷基、环烷基、取代或未取代的芳基,所述的基团R和R’可以由能与有机或硅氧烷聚合物反应的基团取代,并且其还可含有化妆或皮肤用活性基团;及

(2)与下式相应的螯合烷基硅烷、钛酸烷基酯或锆酸烷基酯:

式中:

R1和n具有与上式(I)给出的相同的意义;

b代表配位体X的配位度;

X是络合配位体的数目;并且

X代表可与能与有机或硅氧烷聚合物反应的基团共价键连接的单齿或多齿螯合配位体或基团,例如烯属不饱和基团((甲基)丙烯酸的、乙烯的基团)、卤化基团、羟基化基团、羧基化基团、硫醇基团、环氧基团、酯基团、氨基基团、脲基团、尿烷基团、乙酰乙酸酯(ACAC)基团或由EDTA衍生的基团及其衍生物,所述的螯合基团也可含有化妆或皮肤用活性基团。

4、根据权利要求3的组合物,其特征在于,所述的螯合烷基硅烷、钛酸烷基酯或锆酸烷基酯是与下式之一相应的物质:

式中:

X、R、R’、R1、n和x具有与上述权利要求3的式(I)和(II)给出的相同的意义。

5、根据权利要求3或4的组合物,其特征在于,R和R’基团被选自烯属不饱和基团、卤化基团、羟基化基团、羧基化基团、硫醇基团、环氧基团、酯基团、氨基基团、氨基酸基团和多肽基团所取代。

6、根据权利要求3至5的任一项的组合物,其特征在于,所述的螯合基团与能与有机或硅氧烷聚合物反应的基团共价键连接,其选自烯属不饱和基团、卤化基团、羟基化基团、羧基化基团、硫醇基团、环氧基团、酯基团、酰氨基基团、脲基团和尿烷基团。

7、根据权利要求3至6的任一项的组合物,其特征在于,所述的螯合基团X选自羧酸、β-酮、β-二酮、β-酮酯、β-酮胺、α-和β-羟基酸,其可以是β-羟基化氨基酸、水扬酸及其衍生物。

8、根据权利要求1至7的任一项的组合物,其特征在于,所述的有机金属化合物选自由四乙氧基硅烷、原钛酸四异丙基酯、锆酸四丙基酯、甲基三乙氧基硅烷、四乙氧基钛、四丁氧基钛、三乙氧基铁和三乙氧基钨组成的一类化合物。

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