[发明专利]在单分子膜上形成小于10纳米金属原子簇或金属原子二维有序点阵的方法无效

专利信息
申请号: 98103527.2 申请日: 1998-07-31
公开(公告)号: CN1075842C 公开(公告)日: 2001-12-05
发明(设计)人: 江龙;陈霄燕;李津如 申请(专利权)人: 中国科学院感光化学研究所
主分类号: C23C18/31 分类号: C23C18/31
代理公司: 上海华东专利事务所 代理人: 李柏
地址: 100101*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 分子 形成 小于 10 纳米 金属 子簇 原子 二维 有序 点阵 方法
【权利要求书】:

1.一种在单分子膜上形成小于10纳米金属原子簇或金属原子二维有序点阵的方法,其特征在于:

单槽法制金属原子的二维点阵:

在标准单分子膜槽中,以纯水为底液,将溶解在氯仿中的两亲聚合物或直链脂肪酸或脂肪胺的单分子膜铺展在槽中,然后将单分子膜压至恒定压力,平衡后,两亲聚合物需用紫外光照射聚合,或直接铺聚合好的膜,然后向底液中注入5×10-6M至5×10-4M金属盐或金属盐络合物的水溶液,使底液中的金属离子的浓度为5×10-6M至5×10-4M;用水平提拉法或垂直提拉法将聚合物膜转移至疏水载片上,将载片浸入纯水中充分漂洗,然后再浸入10-6M至10-4M的还原剂水溶液中还原,最后将载片洗净,氮气吹干,在单分子膜上形成小于10纳米金属原子的二维有序点阵。

2.一种在单分子膜上形成小于10纳米金属原子簇或金属原子二维有序点阵的方法,其特征在于:

三槽法制金属原子的二维点阵:

在“三槽式”拉膜仪的三个槽中,在第一槽中加入5×10-6M至5×10-4M的金属盐或金属盐络合物的水溶液,第二槽中加入纯水,第三槽中加入5×10-7M至5×10-4M的还原剂水溶液,将溶解在氯仿中的两亲聚合物或直链脂肪酸或脂肪胺的单分子膜铺展在第一个槽后,两亲聚合物需进行紫外光照射聚合,或直接铺聚合好的膜,然后在恒定表面压力下将此聚合物膜小心推至第二个充满纯水的槽体中,静置后,最后再推至第三个槽体将吸附的金属离子还原,还原后,用水平提拉法或垂直提拉法将单分子膜转移至载片上,氮气流吹干,在单分子膜上形成小于10纳米金属原子的二维有序点阵。

3.一种在单分子膜上形成小于10纳米金属原子簇或金属原子二维有序点阵的方法,其特征在于:

三槽法制备单分散的金属原子簇的二维点阵:

在“三槽式”拉膜仪的三个槽中,在第一槽中加入5×10-6M至5×10-4M的金属盐或金属盐络合物的水溶液,第二槽中加入纯水,第三槽中加入5×10-7M至5×10-4M的还原剂水溶液和5×10-6M至5×10-4M的金属盐或金属盐络合物的水溶液,将溶解在氯仿中的两亲聚合物或直链脂肪酸或脂肪胺的单分子膜铺展在第一个槽后,两亲聚合物需进行紫外光照射聚合,或直接铺聚合好的膜,在恒定表面压力下将此聚合物膜推至第二个充满纯水的槽体中,静置后,再推至第三个槽体将吸附的金属离子还原,还原后,用水平提拉法或垂直提拉法将单分子膜转移至载片上,氮气流吹干,在单分子膜上形成小于10纳米金属原子簇的二维有序点阵。

4.一种在单分子膜上形成小于10纳米金属原子簇或金属原子二维有序点阵的方法,其特征在于:

单槽法制备单分散的金属原子簇的二维点阵:

在标准单分子膜槽中,以5×10-6M至5×10-4M金属盐或金属盐络合物的水溶液为底液,将溶解在氯仿中的两亲聚合物或直链脂肪酸或脂肪胺的单分子膜铺展在槽中,两亲聚合物需进行紫外光照射聚合,或直接铺聚合好的膜,然后将单分子膜压至恒定压力,平衡后,用水平提拉法或垂直提拉法将单分子膜转移至疏水载片上,将载片浸入纯水中充分漂洗,然后再浸入10-7M至10-4M的还原剂水溶液和5×10-6M至5×10-4M金属盐或金属盐络合物的水溶液中,还原后,最后将载片洗净,氮气吹干,在单分子膜上形成小于10纳米金属原子簇的二维有序点阵;

5.如权利要求1、2、3或4任意一项所述的在单分子膜上形成小于10纳米金属原子簇或金属原子二维有序点阵的方法,其特征在于所述的恒定压力为π=15-30mN/m,所述的紫外光波长为240nm-260nm。

6.如权利要求1、2、3或4任意一项所述的在单分子膜上形成小于10纳米金属原子簇或金属原子二维有序点阵的方法,其特征在于所述的两亲聚合物的亲水头是羧基、氨基或巯基极性基团。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院感光化学研究所,未经中国科学院感光化学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/98103527.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top