[发明专利]喷墨头基片、喷墨头、喷墨装置和制造喷墨记录头的方法无效

专利信息
申请号: 97117706.6 申请日: 1997-08-21
公开(公告)号: CN1089692C 公开(公告)日: 2002-08-28
发明(设计)人: 齐藤一郎;今仲良行;尾崎照夫;宫越俊守;望月无我;小川正彦 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: B41J2/16 分类号: B41J2/16
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 杜日新
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 喷墨 头基片 装置 制造 记录 方法
【权利要求书】:

1.一种用于喷墨记录头的基片,具有许多产热元件,用于产生供排墨用的热能,

所述产热元件由具有4000μΩ·cm或更小的电阻率的薄膜制成,所述薄膜用由TaxSiyRz表示的材料制成,其中R是从C、O、N当中选取的一种或几种元素,且x+y+z=100。

2.如权利要求1所述的用于喷墨记录头的基片,其中关于产热元件,y/(x+y)为4至35原子%。

3.如权利要求1所述的用于喷墨记录头的基片,其中所述产热元件由TaxSiyNz制成,其中x=20至80原子%,y=3至25原子%,

z=10至60原子%。

4.如权利要求3所述的用于喷墨记录头的基片,其中所述产热元件由TaxSiyNz制成,其中x=30至60原子%,y=3至15原子%以及

z=30至60原子%

5.如权利要求1所述的用于喷墨记录头的基片,其中所述产热电阻层至少由Ta-Si-N膜构成,从而形成层迭结构,其中具有积热层/产热电阻层/其间具有产热电阻层的保护层,并且其它的每一层由这样的材料构成,所述材料至少具有所述产热电阻层的结构原子中的一种原子,作为其结构原子。

6.一种喷墨记录头,具有用于排放油墨的油墨排放口,用于产生供排墨用的热能的许多产热元件,和其中包括所述产热元件的,并同时和所述油墨排放口相通地连接的油墨流动通路,

所述产热元件由电阻率值为4000μΩ·cm或更小的薄膜制成,所述薄膜由用TaxSiyRz表示的材料制成,其中R是从C、O、N当中选取的一种或几种元素,且x+y+z=100。

7.如权利要求6所述的喷墨记录头,其中关于所述产热元件,y/(x+y)等于4至35原子%。

8.如权利要求6所述的喷墨记录头,其中所述产热元件由TaxSiyNz制成,其中x=20至80原子%,y=3至25原子%,z=10至60原子%。

9.如权利要求8所述的喷墨记录头,其中所述产热元件由TaxSiyNz制成,其中x=30至60原子%,y=3至15原子%,z=30至60原子%。

10.如权利要求6所述的喷墨记录头,其中所述产热电阻层至少由Ta-Si-N膜构成,从而形成层迭结构,该层迭结构具有积热层/产热电阻层/其间具有产热电阻层的保护层,并且其它的每一层由这样的材料制成,该材料具有所述产热电阻层的结构原子当中的至少一种原子,作为其结构原子。

11.如权利要求6所述的喷墨记录头,其中油墨被保持在所述油墨流动通路中,并且同时所述产热元件向油墨提供大于使膜沸腾的热能,从而排放油墨。

12.一种喷墨记录装置,它具有:

喷墨记录头,它具有用于排放油墨的油墨排放开口,用来产生供排墨使用的热能的许多产热元件,以及其中包括所述产热元件,同时又和所述油墨排放开口相通地连接的油墨流动通路,以及

承载装置,用来承载接收从所述喷墨记录头的记录头排出的油墨的记录介质,

所述产热元件由电阻率值为4000μΩ·cm或更小的薄膜制成,所述薄膜由用TaxSiyRz表示的材料制成,其中R为从C、O、N当中选取的一种或几种元素,且x+y+z=100。

13.一种用于制造喷墨记录头的方法,所述喷墨记录头具有用于排放油墨的油墨排放开口,用于产生供排墨所用的热能的许多产热元件,以及其中包括所述产热元件并同时和所述排放油墨开口相通地连接的油墨流动通路,

所述产热元件使用由Ta-Si制成的合金靶,并且通过在至少具有氮气、氧气、碳气和氩气的混合气体的环境中利用反应溅射系统形成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/97117706.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top