[发明专利]熨斗无效
| 申请号: | 96122052.X | 申请日: | 1996-09-25 |
| 公开(公告)号: | CN1083912C | 公开(公告)日: | 2002-05-01 |
| 发明(设计)人: | 金泽成寿;胡桃泽利光;清水政雄;中村俊英;小林伸一郎;谷口透;前田俊之;松好弘明;山田光昭;斋藤道雄 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社;大阪瓦斯株式会社 |
| 主分类号: | D06F75/38 | 分类号: | D06F75/38 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨丽琴 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 熨斗 | ||
1.一种熨斗,其特征在于:它包括一种熨斗底座基质材料1,在其熨烫表面上镀覆有一种镀膜层2,该镀层沿其厚度方向分散含有氟化合物微粒4。
2.根据权利要求1所述的熨斗,其特征在于,所述氟化合物微粒的粒径比所述镀膜层的厚度更小。
3.根据权利要求1所述的熨斗,其特征在于,所述氟化合物微粒在镀膜层中的含量大于15容量%。
4.根据权利要求1所述的熨斗,其特征在于,所述氟化合物微粒是从以下群组中选出的一种或二种以上,即聚四氟乙烯、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、四氟乙烯-全氟烷基乙烯醚共聚物、氟化石墨、氟化沥青,以及氟化沥青和染料或颜料反应而制成的着色氟化沥青。
5.根据权利要求1所述的熨斗,其特征在于,所述分散含有上述氟化合物微粒的镀膜层是在比其氟化合物(除氟化石墨外)微粒熔点高的温度进行加热处理而成的。
6.根据权利要求1所述的熨斗,其特征在于,所述设置在熨斗底座基质材料上的镀膜层表面,其粗糙度为1.0μm以下。
7.根据权利要求1所述的熨斗,其特征在于,所述熨斗底座基质材料是铝压延板制成的。
8.根据权利要求1所述的熨斗,其特征在于,所述镀膜层包括一种过渡金属基质,该基质中分散有氟化物微粒。
9.根据权利要求8记所述熨斗,其特征在于,所述镀膜层包括一种金属基质,它选自铜、镍、铬、锌、镉、锡、铁、铅、贵金属及其合金。
10.一种熨斗,它包括:
基座部件9,它有上表面和下表面;
熨烫面件10,它有上表面和底表面,所述熨烫面件位于所述基座部件的下面,该熨烫面件的上表面面对着底座部件上的的至少一部分下表面,以及,
一种复合镀膜12,它镀覆于所述熨烫面件的底表面上,
其中,所述复合镀膜层含有氟化合物微粒11,所述微粒沿该镀膜的厚度方向分散于整个复合镀膜中。
11.根据权利要求10所述的熨斗,其中,在所述基座部件中形成有气化室。
12.根据权利要求11所述的熨斗,其中,所述熨烫面件装有蒸汽孔和通道,所述通道用于将气化室内产生的蒸汽导入蒸汽孔,该通道装于底座部件与熨烫面件之间。
13.根据权利要求10所述的熨斗,其中,所述熨烫面件是通过装于该熨烫底座部件的上表面的部件而附到所述基座部件上。
14.根据权利要求10所述的熨斗,其中,在所述底座部件的下表面与熨烫面件的上表面之间装没有一种具有良好热导性的部件。
15.根据权利要求10所述的熨斗,其中,所述熨烫面件包括一种铝压延板,而所述复合镀膜形成于所述铝压延板的至少下表面上。
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