[发明专利]磁镀装置无效
申请号: | 96103668.0 | 申请日: | 1996-05-17 |
公开(公告)号: | CN1165872A | 公开(公告)日: | 1997-11-26 |
发明(设计)人: | 刘武青 | 申请(专利权)人: | 刘武青 |
主分类号: | C23C18/00 | 分类号: | C23C18/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 630012 四川省重庆*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
1一种磁镀装置,由磁埸、电解质溶液、待镀的制品即镀件、镀层金属、导线、磁镀池组成,其特征在于电解质溶液处在磁埸中。
2根据权利要求1所述的磁镀装置,其特征在于磁埸的磁体是永磁体。
3根据权利要求1所述的磁镀装置,其特征在于磁埸的磁极为异性极,N极、S极。
4根据权利要求1所述的磁镀装置,其特征在于磁埸的磁极为同性极,N极、N极或S极、S极。
5根据权利要求1所述的磁镀装置,其特征在于磁埸的磁体是超导磁体。
6根据权利要求1所述的磁镀装置,其特征在于电解质溶液中含有带正电荷的磁性离子。
7根据权利要求1所述的磁镀装置,其特征在于待镀的制品即镀件具有磁性。
8根据权利要求1所述的磁镀装置,其特征在于待镀的制品即镀件处在N极、S极的吸引磁埸中。
9根据权利要求1所述的磁镀装置,其特征在于镀层金属处在N极、N极或S极、S极的排斥磁埸中。
10根据权利要求1所述的磁镀装置,其特征在于镀层金属具有磁性或能形成带正电荷的磁性离子的金属。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理