[发明专利]超高纯氨制备系统、高精密电子元件制造系统及其生产线上工作站供应高纯氨试剂的方法

权利要求书

1超高纯氨的制备系统，该系统包括：

(a)液面上留有蒸汽空间的液体氨储存容器；

(b)自所述蒸汽空间采出含氨气蒸汽的装置；

(c)自所采出蒸汽除却＞0.005微米颗粒的过滤膜；及

(d)液-蒸汽接触单元，用以使已通过所述过滤膜的滤后蒸汽与氨的除离子水溶液接触并因此制得纯化氨气。

2权利要求1的系统，其中，所述液-蒸汽接触单元为洗气塔。

3权利要求2的系统，该系统进而包括精馏塔，用以精馏自所述洗气塔排出的蒸汽。

4适用高精密电子元件制造的系统，该系统包括：

(a)包括许多工作站的生产线，其中，所述工作站依次而置，用以处理组成所述电子元件的工件，而且选择这类工作站之一施用氨于所述工件；

(b)沿所述生产线连续输送所述工件至所述工作站的装置；

(c)与所述生产线上所选工作站邻接并以超纯态供应氨的子单元，该子单元包括：

(i)液面上留有蒸汽空间的液体氨储存容器；

(ii)自所述蒸汽空间采出含氨气蒸汽的装置；

(iii)自所采出蒸汽除却＞0.005微米颗粒的过滤膜；及

(iv)液-蒸汽接触单元，用以使已通过所述过滤膜的滤后蒸汽与氨的除离子水溶液接触并因此制得纯化氨气；

以及(d)将步骤(c)的产物在所述工作站直接施用工件的装置。

5权利要求4的系统，其中，所述液-蒸汽接触单元为洗气塔。

6权利要求5的系统，其中，所述子单元进而包括精馏塔，用以精馏自所述洗气塔排出的蒸汽。

7权利要求5的系统，其中，所述子单元进而包括用以使所述纯化氨与纯化水相混生成氨水溶液的装置。

8权利要求5的系统，其中，经所述子单元纯化的氨在位于距将步骤(c)的产物在所述工作站施用所述工件的装置约30cm处引出。

9权利要求5的系统，其中，所述子单元的尺寸足可以约200cc/h～2L/h速率生成所述纯化氨气。

10适用高精密电子元件制造生产线上工作站供应高纯氨试剂的方法，该法包括：

(a)自氨储存容器内液氨上部蒸汽空间采出氨气；

(b)使所述氨气通过过滤膜并自其中除却＞0.005微米的颗粒；

(c)使滤后氨气通过液-蒸汽接触单元，从而使所述氨气与氨的除离子水溶液接触；及

(d)回收自所述液-蒸汽接触单元排出的所述氨气并将所述氨气输送至所述工作站。

11权利要求10的方法，其中，所述液-蒸汽接触单元为洗气塔。

12权利要求10的方法，该法进而包括使自所述液-蒸汽接触单元排出的所述氨气在输送至所述工作站前先溶解于纯化水中。

13权利要求10的方法，该法进而包括使自所述液-蒸汽接触单元排出的所述氨气通过精馏塔，以便在所述氨气输送至所述工作站前进一步纯化。

14权利要求10的方法，该法进而包括(c’)使自所述液-蒸汽接触单元排出的所述氨气通过精馏塔作进一步纯化，并使自精馏塔排出的所述氨气在输送至所述工作站前先溶解于纯化水中。

15权利要求10的方法，其中，步骤(c)在温度介于10～50℃间进行。

16权利要求10的方法，其中，步骤(c)在温度介于15～35℃间进行。

17权利要求14的方法，其中，步骤(c)及(c’)在温度介于15～35℃间进行。

18权利要求10的方法，其中，步骤(c)在温度介于15～35℃间且压力接近大气压～约高于大气压30psi间进行。

19权利要求14的方法，其中，步骤(c)及(c’)在温度介于15～35℃间且压力接近大气压～约高于大气压30psi间进行。

20权利要求10的方法，其中，所述液-蒸汽接触单元位于距所述工作站约30cm处。

21权利要求14的方法，其中，所述精馏塔位于距所述工作站约30cm处。