[发明专利]使用光敏材料的电子照像法无效
| 申请号: | 95118314.1 | 申请日: | 1995-10-31 |
| 公开(公告)号: | CN1131285A | 公开(公告)日: | 1996-09-18 |
| 发明(设计)人: | 辻田充司;田中作白;寺田幸史;寺田卓司;山里一郎;宫本荣一 | 申请(专利权)人: | 三田工业株式会社 |
| 主分类号: | G03G15/06 | 分类号: | G03G15/06 |
| 代理公司: | 北京市中原信达知识产权代理公司 | 代理人: | 张天舒 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 使用 光敏 材料 电子 照像法 | ||
本发明涉及使用光敏材料的电子照像方法,具体说来,涉及一种有机光敏材料及利用其小曝光量条件下的高感光特性问题。更详细地说,本发明涉及通过一种光敏材料进行电子照像的方法,特别是一种在约达半曝光量的条件下,电荷的失去变得轻微的光敏材料,此种材料适宜于高速电子照像体系、不产生灰雾。
电子照像法中,用于电子照像的光敏材料被充电,对载像光曝光,形成静电潜像,在加有显影偏压的状态下用上色剂显影,并将形成的上色影像转移到转印像纸上,随后定影形成影像。
目前为止,电子照像法中所用光敏材料是硒光敏材料和无定形硅光敏材料。但近几年来有机光敏材料(OPC)被广泛使用。有机光敏材料的典型例包括一种各层功能不同的叠合光敏材料,其中,产生电荷试剂(CGM)和转移电荷试剂(CTM)作为分开的两层被叠合在一起,还包括一种CGM和CTM作为单分散层的单层光敏材料。
在这些有机光敏材料中,单层光敏材料含有分散在树脂介质中的产生电荷试剂,而转移电荷试剂则溶解于该介质中。并且,在某些叠合层光敏材料中,产生电荷试剂层含有分散于树脂介质中的产生电荷试剂。
如图1所示,当光敏材料对载像光曝光时(该图1描述表面势与时间之间的关系),反应黑暗程度衰减的黑暗部分(D)的电势衰减幅度很小,而反应光亮程度衰减的光亮部分(L)的电势则很快衰减,由此形成适于显影的电势反差。
与光亮衰减速度相关的光敏材料的感光度,一般由将曝光之前相关初始电势减半所需之曝光量来评估,即由“半曝光量”(lux×sec)来评估。
当光敏材料曝光、电荷很快衰减至接近半曝光量水平,然而当曝光量超过半曝光量,电荷衰减则很小。
为避免由于光亮部分的残余电势所引起的灰雾,则另一方面,曝光量必需采用比半曝光量高得多的量。
为此,需要大输出功率的光源,并需大功率冷却风扇以除去由光源产生的热,结果增加了设备投资和电能消耗。而且,将有机光敏材料对大光量曝光会引起光敏材料变质。加一方面,若使用小输出功率光源,那么曝光步骤所需时间延长,使得拷贝速度,及传真或激光打印的印刷速度受到限制。
因此,本发明的目的是提供一种电子照像法,该方法能形成无灰雾的清晰影像,具体说来是通过使用小曝光量区光敏材料的高感光特性,仅以少量曝光便能形成影像。
本发明的另一目的是提供一种类型的电子照像法,该类型是通过使用有机光敏材料,利用廉价装置,消耗少量资源和能量来实现的。
根据本发明,提供一种电子照像法,该方法包括,将光敏材料对载像光曝光,使光敏材料充电而形成静电潜像,在加有显影偏压的状态下使静电潜像显影。其中所述显影偏压设置于这样一个电势下,它具有与光敏材料中电荷的极性相同的极性,并高于光衰减特性曲线中,接近大曝光量区的曲线与接近小曝光量区的曲线相互交叉之相应点的电势(下文通常称之为交叉点电压(EH))。
本发明能有利地适用于在接近半曝光量处,电荷失去变得轻微的光敏材料,特别适用于其中产生电荷试剂被分散的有机光敏材料,优选其中产生电荷物质被分散于包括有电荷转移物质的树脂介质的单分散层光敏材料,最优选用于正电荷型单分散层光敏材料。
在光衰减特性由下述公式(1)代表时,本发明所用光敏材料表现出最为显著的效果:
V=Vo{A·exp(-B·I)+C·exp(-D·I)} …(1)其中:I是曝光量(lux·sec),V是当曝光量为I时,光敏材料表面电势的绝对值(volts),Vo是光敏材料表面初始电势的绝对值(volts),A和C分别是0.7-1和0-0.3的数值,其条件是它们的和为1,B是0.1-1.5lux-1·sec-1的系数,而D是0.01-0.2lux-1·sec-1的系数。
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