[发明专利]防止聚合物结垢沉积的方法无效

专利信息
申请号: 90104127.0 申请日: 1990-05-01
公开(公告)号: CN1047301A 公开(公告)日: 1990-11-28
发明(设计)人: 上野进;金子一郎;渡边幹雄 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: C08F2/44 分类号: C08F2/44
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 黄家伟,杨厚昌
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 防止 聚合物 结垢 沉积 方法
【说明书】:

本发明涉及一种在具有烯属双键的单体在聚合期间防止聚合物结垢沉积在聚合釜的内壁等上面的方法。

众所周知,在聚合釜中用单体进行聚合制备聚合物的过程中,聚合物以结垢形式沉积在与单体接触的聚合釜的内壁和其他零部件上(例如聚合釜的搅拌叶)。在内壁上的聚合物结垢沉积的结果是使聚合物的产量和聚合釜的冷却能力降低;聚合物结垢可能会脱落并混入成品的聚合物里。因而,这就降低了聚合物成品的质量;而去除这种聚合物的结垢既费力又费时。此外,由于聚合物结垢含有未反应的单体,工作人员有暴露于未反应单体的危险,使他们的身体产生不适。

至今,人们已知防止聚合物结垢沉积的方法是在聚合釜内壁等上面涂敷上能起到聚合物防垢剂作用的各种物质。例如,特殊的极性化合物(日本专利公告(KOKOKU)NO.30343/1970);染料或颜料(日本专利公告)(KOKOKU)NO.30343/1970和30835/1970);芳香胺化合物(日本初审专利公开(KOKAI)NO.50887/1976);酚类化合物与芳香醛的反应产物(日本初审专利公开(KOKAI)NO.54317/1980。

对于要聚合的单体是卤化乙烯(如,氯化乙烯),或是含有大量卤化乙烯和少量的其他可与之共聚合的单体混合物而言,这种方法可有效地防止聚合物的结垢沉积。然而,这种防止结垢的效果是随聚合条件而变化的,例如,单体的种类、聚合催化剂的种类、聚合体系的形式以及聚合釜内壁的材料;这些对于有效地防止结垢的沉积是有困难的。特别是当使用具有强氧化作用的聚合催化剂时,例如,过(二)硫酸钾、乙酰基环己基硫酰过氧化物和二(2-乙氧基乙基)过氧二碳酸酯,形成涂层的防垢剂可能会被氧化,这样就减弱了防垢效果。对于内壁用不锈钢或其他钢材料制成的聚合釜,要比用有玻璃衬里的聚合釜更容易发生聚合物结垢的沉积。乳液聚合要比悬浮聚合更容易形成聚合物的结垢沉积。

在上述方法所用的防垢剂中,日本专利公告(KOKOKU)30835/1970和24953/1977中所描述的染料和颜料,日本初审专利公开(KOKAI)50887/1976中所描述的芳香胺化合物,日本初审专利公开(KOKAI)54317/1980中所描述的酚类化合物和芳香醛的反应产物,都带有颜色,因而有可能对成品聚合物染色的缺点。

在日本专利公告(KOKOKU)30343/1970中所描述的极性有机化合物(如苯胺、硝基苯、甲醛等),以及日本专利公告(KOKOKU)30835/1970中所描述的含有重金属诸如铬和铅的颜料,都有毒性。在日本专利公告(KOKOKU)30835/1970和24953/1977中所描述的包括那些与致癌有关的染料,从安全生产的观点看,这些物质会引起严重的问题。

因此,本发明的目的是提供一种有效而又可靠的防止聚合物结垢沉积的方法。它是在任何条件下进行的,例如,各种单体等。另外,在生产操作时,没有制备聚合物的染色或安全方面的问题。

本发明人已发现,可以通过在聚合釜的内壁上形成含有特殊化合物的涂层来实现上述目的。

因此,为了解决现有技术的问题,本发明提出一种使具有烯属双键的单体在聚合期间防止聚合物在聚合釜中结垢沉积的方法,其中所说的聚合反应是在其内壁上涂敷含有单宁和酰基卤的反应产物的聚合釜中进行的。

本发明也提供了这种在其内壁上涂敷含有所说的单宁和酰基卤的反应产物涂层的聚合釜。

另外,本发明还提供了一种含有所说的单宁和酰基卤反应产物的聚合物防垢剂。

根据本发明,对于具有烯属双键的单体在聚合中所发生的聚合物结垢沉积能被有效而可靠地防止,而不论聚合的条件,诸如单体的种类,聚合釜内壁材料等等。例如,无论对于用悬浮聚合、乳液聚合、本体聚合、溶液聚合或气相聚合单体的情形,或者是在不锈钢的或加有玻璃衬里的聚合釜中进行聚合的情形,还是使用是有强氧化作用的聚合催化剂的情形,都能可靠而又有效地防止聚合物的结垢沉积。因此,每次聚合后去除聚合物结垢的操作就不再需要了,从而显著地提高了生产量。一般单宁和酰基卤的反应产物是无色的,因此,对于制备聚合物的染色就无危险。所以可稳定地生产出高质量的聚合物。此外,所用的无毒性的防垢剂对于生产操作是安全的。

本发明所使用的这种单宁和酰基卤的反应产物作为防垢剂的主要成份是一种反应产物,它是在加热的条件下,在碱性水溶液中通过单宁和酰基卤的反应而获得的。

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