[其他]一种离子轰击减薄装置无效
| 申请号： | 88206944 | 申请日： | 1988-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN88206944U | 公开（公告）日： | 1988-12-28 |
| 发明（设计）人： | 王凤莲;褚一鸣;陆珉华 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28 |
| 代理公司： | 中国科学院专利事务所 | 代理人： | 卢纪 |
| 地址： | 北京市9*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 离子 轰击 装置 | ||
【权利要求书】：
1、一种供制备透射电子显微镜观测样品用的离子轰击减薄装置，其特征为，在所设样品室两侧各接一个气流选通阀，选通阀的一个气流选择通道连通样品室与设在两侧的氩气入口，它的另一选择通道连通样品室与设在两侧的碘蒸气升华腔。
2、按照权利要求1所述离子轰击减薄装置的特征为，所述设在样品室两侧的碘蒸气升华腔及其连通样品室的选择通道是被安置在恒温室内，恒温室的控制温度可以在室温～25℃至60℃的范围内进行调节。
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