[发明专利]用非损耗性阳极电解熔融盐

权利要求书

1、一种金属电解制取的方法，它是通过应用一种浸于熔融料中的阳极，将含有熔解的欲制取金属的熔融料进行电解，其中该阳极具有一金属、合金或金属陶瓷质基底，以及带保护性表面覆盖层的阳极操作表面，该表面覆盖层含有比欲制取金属为活泼的金属的化合物，这种保护性覆盖层可保存于含适当浓度的所述比较活泼的金属的熔融料中，所述方法的特征在于，其中应用了一种阳极，该阳极包括了在金属、合金或金属陶瓷质基底上的具有导电性的氧阻隔层。

2、按权利要求1的方法，其特征在于，在所述熔融料中操作的初始阶段，将保护覆盖层电沉积在阳极上。

3、按权利要求1的方法，其特征在于，在阳极插入熔融料之前，将保护覆盖层加置于阳极基底上。

4、按权利要求1-3之任一项的方法，其特征在于，电解是在一含氟基质的熔融料中进行的，该熔融料中含有熔解的欲制取的金属的氧化物和至少一种铈化合物，并且所述保护覆盖层主要是一种含氟的铈氧化合物。

5、按权利要求4的方法，其特征在于，所述保护覆盖层主要包括含氟的铈氧化物。

6、按前述任一项权利要求的方法，其特征在于，所述氧阻隔层为一含氧化铬层;含有至少一种铂、钯和金层;铂-锆合金;或镍-铝合金。

7、按权利要求6的方法，其特征在于，所述氧阻隔层是一种由金属、合金或金属陶瓷基底的一个或多个组分所组成的整体氧化物薄膜。

8、按权利要求7的方法，其特征在于所述基底是包括下列组分的一种合金，即10-30%（重量）铬，55-90%（重量）镍、钴和/或铁，和至多15%（重量）铝、铪、钼、铌、硅、钽、钛、钨、钒、钇和锆，而所述氧阻隔层包括氧化铬。

9、按权利要求6的方法，其特征在于，所述氧阻隔层是加置于金属、合金或金属陶瓷基底表面的隔开层。

10、按上述权利要求之任一项的方法，其特征在于，所述阳极在保护覆盖层和氧阻隔层之间还包括氧化物陶瓷层，所述氧化陶瓷层用于固定防护覆盖外层。

11、按权利要求10的方法，其特征在于，所述氧化物陶瓷层包括了，在至少与另一种氧化物所成的固溶体中的氧化铜;铁酸镍;氧化铜和铁酸镍;经掺杂的非化学计量或部分取代的尖晶石;或稀土金属氧化物或氧氟化物。

12、按权利要求10的方法，其特征在于，氧化物陶瓷层包括与一种镍的氧化物或锰的氧化物所成的固溶体中的氧化铜。

13、一种用作在熔融盐中进行金属电解制取的阳极，该阳极包括金属、合金或金属陶瓷的基底，以及带保护层的阳极操作表面，在应用时，它保存在含适当浓度的比欲制取金属活泼的金属的化合物熔融料中，该阳极的特征在于，在金属、合金或金属陶瓷基底上具有导电性的氧阻隔层。

14、按权利要求13的阳极，其特征在于，所述氧阻隔层为含氧化铬的层;至少含一种铂、钯和金的层料;铂-锆合金;或镍-铝合金。

15、按权利要求13的阳极，其特征在于，所述氧阻隔层为一整体的氧化物薄膜，并且由金属、合金或金属陶瓷基底的一个或多个组分所组成。

16、按权利要求15的阳极，其特征在于，所述基底是一种合金，其中包括10-30%（重量）铬，55-90%（重量）镍、钴和/或铁，和至多15%（重量）铝、铪、钼、铌、硅、钽、钛、钨、钒、钇和锆，所述氧阻隔层包括氧化铬。

17、按权利要求13的阳极，其特征在于，所述氧阻隔层是加置于金属、合金或金属陶瓷基底表面的隔开层。

18、按权利要求13-17任一项的阳极，其特征在于，所述阳极还包括在保护覆盖层和氧阻隔层之间的氧化物陶瓷层，所述氧化物陶瓷层用于固定保护覆盖层。

19、按权利要求18的阳极，其特征在于，所述氧化物陶瓷层包括与至少一种其它氧化物所成固溶体中的氧化铜;铁酸镍;氧化铜和铁酸镍;经掺杂的非计量或部分取代的尖晶石;或稀土金属的氧化物或氧氟化物。

20、按权利要求18的阳极，其特征在于，所述氧化物陶瓷层包括与一种镍的氧化物或锰的氧化物所成的固溶体中的氧化铜。