[发明专利]新的氮化硼基化合物

权利要求书

1、主要为氮化硼基的陶瓷产品，其特征在于该产品含有大部分分布在所述产品外层中的硅原子。

2、根据权利要求1的陶瓷产品，其特征在于氮化硼为六面体形。

3、根据上述任一权利要求的陶瓷产品，其特征在于：在所述产品中含有的硅原子的重量百分比不超过10%。

4、根据上述任一权利要求的陶瓷产品，其特征在于：在所述产品品中含有的硅原子中，至少有80%分布在200数量级的外层中。

5、根据上述任一权利要求的陶瓷产品，其特征在于所述的硅原子是以含硅化合物的形式存在。

6、根据权利要求5的陶瓷产品，其特征在于硅原子具有氧氮化硅的形状。

7、根据权利要求6的陶瓷产品，其特征在于该氧氮化硅具有Si₂N₂O的化学式。

8、根据上述任一权利要求的陶瓷产品，其特征在于B₂O₃的摩尔百分比小于2%。

9、根据上述任一权利要求的陶瓷产品，其特征在于碳的摩尔百分比小于2%。

10、制备上述任一权利要求的陶瓷产品的方法，其特征在于：在氮气氛中并在高达1000至2000℃的温度下，将三卤甲硼烷（化合物A）和下面化学式Ⅰ（化合物B）：

的化合物的混合物a）与至少含有一NH₂基（化合物C）的化合物b）进行反应所得到的有机金属的产物母体进行高温分解，化学式Ⅰ中的X表示卤素原子、R¹和R²表示相同或不同的甲硅烷基。

11、根据权利要求10的方法，其特征在于所述的反应全部地进行（en  masse）。

12、根据权利要求10的方法，其特征在于所述的反应在无水有机溶剂的溶液中进行。

13、根据权利要求10至12的任一权利要求的方法，其特征在于化合物A为三氯基甲硼烷。

14、根据权利要求10至13的任一权利要求的方法，其特征在于X表示氯原子。

15、根据权利要求10至14的任一权利要求的方法，其特征在于R¹和R²基是（三烷基）甲硅烷基。

16、根据权利要求15的方法，其特征在于R¹和R²基是（三甲基）甲硅烷基。

17、根据权利要求10至16的任一权利要求的方法，其特征在于：化合物C具有下面的化学式（Ⅱ）

其中，R³基是从氢原子、烷基、环烷基、芳基、烷芳基、芳烷基、烯烃基、炔基及有机甲硅烷基和有机甲硅烷基氢化物的基团中选择。

18、根据权利要求17的方法，其特征在于R³基是在氢和烷基之间进行选择。

19、根据权利要求18的方法，其特征在于R³为氢原子。

20、根据权利要求10至19的任一权利要求的方法，其特征在于：在高温分解以前，首先将有机金属的产物母体成型。

21、根据权利要求20的方法，其特征在于所述的成型包括挤压，用于获得丝线。

22、根据权利要求20的方法，其特征在于所述的成型包括铺涂在支撑物上。

23、权利要求1至9中任一权利要求所定义的陶瓷产品的用于制备以氮化硼和含硅化合物为基的混合陶瓷材料的用途，其中所说的含硅化合物是氮化硅、碳化硅、氧氮化硅、氧氮化硅铝、硼化硅及二氧化硅。