[其他]化合物薄膜形成装置

权利要求书

1、一种化合物薄膜形成装置，包括：保持有所定真空度的真空槽，设置在该真空槽内的衬底，向这衬底喷出蒸镀物质的蒸气、并产生上述蒸镀物质的块状原子团的蒸气发生源，设置在该蒸气发生源与所说衬底之间并使上述原子团的至少一部分电离的电离机构，设置在该电离机构与所说衬底之间并将通过上述电离机构而被电离了的原子团以及设有电离的蒸镀物质的原子团及蒸气向上述衬底碰撞的加速电极，其特征在于，该化合物薄膜形成装置备有：设置在所说真空槽内的内部槽，设置在该内部槽的内侧、用以喷射反应性气体的气体喷射喷嘴，设置在该气体喷射喷嘴的反应性气体的喷射方向上、用以引出电子束的电子束引出电极，设置在该电子束引出电极的反应性气体的喷射方向上、用以放出电子束的电子束放出机构，在上述的内部槽中，设置在所说电子束引出电极及所说电子束放出机构的外侧、用以对所说电子束引出电极和电子束放出机构进行电位屏蔽的电场屏蔽板，设置在该电场屏蔽板与所说衬底之间、用以对上述电子束引出电极及所说电子束放出机构进行正电位偏置、并且将上述反应性气体加速的加速电极。

2、权利要求1的化合物薄膜形成装置，其特征在于，所说电场屏蔽板与电子放出机构的电位相同或被偏置，使它对于电子束放出机构呈负电位。