[发明专利]液氮温区超导薄膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 87102739.9 申请日: 1987-04-15
公开(公告)号: CN1004951B 公开(公告)日: 1989-08-02
发明(设计)人: 赵柏儒;王会生;陆勇;史引焕;赵玉英;李林 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01B12/06 分类号: H01B12/06;C22C29/12
代理公司: 中国科学院物理研究所专利办公室 代理人: 张爱莲
地址: 北京6*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 液氮 超导 薄膜 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1、一种超导薄膜的制备方法,其特征是压铸成型高温烧结的化合物靶,直流(或射频)磁控充氩溅射和热处理工艺过程,并制成液氮温区超导薄膜。

2、根据权利要求1所述的方法,其特征是化合物靶按AxB5-xCu5O5(3-y)体系或按AxB1-xCuO3-y体系的四元氧化物制成,其中A=Ca,Sr,Ba,B=Sc,Y,La,X=0.5-0.6,Y-0.5-1,后者体系X=0.3-0.7,选用市售纯度的原料混合研磨,在700-850℃预烧3-8小时,取压强为1-2吨/cm2,压铸成型,再经850-1000℃烧结10-15小时,化合物靶呈黑色,尺寸为直径60-65毫米,厚度为3-5毫米。

3、根据权利要求1所述的方法,其特征是溅射条件:

(1)溅射室的背景真空度为1×10-5乇,

(2)Ar气氛压强为(2-8)×10-2乇,可附加充氧,调节膜的氧含量,

(3)基片材料为白宝石(Al2O3)或石英片或氧化锆,基片加温范围200-600℃,

(4)直流溅射电压为200-500V或射频溅射电压为1.5-2KV,

(5)溅射时间为0.5-2小时。

4、根据权利要求1所述的方法,其特征是在700-900℃温度范围内对膜进行热处理。

5、根据权利要求1所述的方法所制备的薄膜,其特征在于用该方法所制备的薄膜厚度为0.5-1μm,并在液氮温区呈现超导。

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