[其他]高均匀膜层镀膜装置

权利要求书

1、用于基片涂膜，特别是在基片上涂高均匀膜层的镀膜装置，它的蒸发源(15或19)平行并置于被动轮(32)下方，在被动轮(32)上方(或下方)装有一个摩擦轨道(28或28a)，工件夹具(35)上装有一个摩擦轮(40)，摩擦轮(40)在摩擦轨道(28或28a)上滚动，其特征在于：

(1)摩擦轨道(28或28a)至少由一对不具轴对称的面对称曲面构成，工件夹具(35)距蒸发源(15或19)最近的摆动极值角大于距蒸发源(15或19)最远的摆动极值角。

(2)或在蒸发源(15或19)正前方，摩擦轨道(28)，被动轮(32)和工件夹具(35)下方的镀膜室底盘(8)上同时装有一个可调可折可卸的空间遮挡片载台装置(48)。

2、根据权利要求1所述装置，其特征在于：摩擦轨道（28或28a）的托盘（31或31a）上有三个供支柱（16）通过的同圆弧形孔。

3、根据权利要求1、2所述装置，其特征在于：托盘（31或31a）上三个同圆弧形孔中的一孔侧刻有角度数。

4、根据权利要求1所述装置，其特征在于：空间遮挡片载台装置（48）的载台（49）可通过可调物（50，51，52，53，56，58）使其两端同时或分别升降。

5、根据权利要求1、4所述装置，其特征在于：空间遮挡片载台装置（48）的载台（49）两端同时或分别升降的高度，可直接从刻数物（57，58）上的刻数读出。

6、根据权利要求1所述装置，其特征在于：空间遮挡片载台装置（48）的载台（49）可通过可调物（58，60）使其对称面围绕被动轮（32）的几何中心轴线（46）转动。

7、根据权利要求1、6所述装置，其特征在于：空间遮挡片载台装置（48）的载台（49）对称面围绕被动轮（32）的几何中心轴线（46）转动的角度，可直接从刻数物（60）上的刻数读出。