[其他]溅射镀膜设备的靶中阴极和接地屏蔽极的配置

权利要求书

1、一种溅射镀膜设备的靶，此靶包括一细长的阴极、溅射的靶材料和一接地屏蔽极，溅射的靶材料配置在该设备一侧的阴极上的一个外表面上，接地屏蔽极使阴极被配置在其中并包括包围阴极的壁，上述接地屏蔽极包围阴极的除上述一个外表面以外的所有表面，在上述这一外表面上，接地屏蔽极是敞开的，使得上述的靶材料被露出来，上述阴极和接地屏蔽极彼此由一其间确定的间隙分开，并在电学上绝缘，靶的特征在于安装在阴极[56]的上述外表面[60]上的外周边缘部分[66]上的，形成一连续的外周凸缘[94]的装置[90]，此外周凸缘侧向向外凸出，超过上述外周边缘部分[66]并凸出在上述间隙[96]之外，而且接地屏蔽极[84]的上述壁[88]的相邻边缘[86]与其成分离的状态。

2、一种按照权利要求1所述的溅射镀膜设备的靶，其特征在于，构成上述凸缘（94）的上述装置（90）包括沿阴极（56）的上述外表面（60）的外周，并在上述外周边缘部分（66）的上面延伸的条形片配置。

3、一种按照权利要求2所述的溅射镀膜设备的靶，其特征在于，上述溅射的靶材料（58）与护圈（65）相接合，护圈包围溅射的靶材料，并被支承在阴极（56）的上述外表面（60）的上述外周边缘部分（66）上，上述条形片（90）被紧固在上述护圈（65）上，并从那里侧向延伸，形成上述凸缘（94）。