[其他]制备与使用表鬼臼毒类的中间体无效
| 申请号: | 86102404 | 申请日: | 1986-04-11 |
| 公开(公告)号: | CN86102404A | 公开(公告)日: | 1986-12-03 |
| 发明(设计)人: | 多拉特拉·M·天亚斯;保罗·M·斯科尼茨尼 | 申请(专利权)人: | 布里斯托尔-米尔斯公司 |
| 主分类号: | C07D307/92 | 分类号: | C07D307/92;C07D261/20;C07D121/60;C07D93/26;C07D68/76 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 王杰,张元忠 |
| 地址: | 美国纽约*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制备 使用 表鬼臼毒类 中间体 | ||
1、下式结构化合物的制备方法
其中,R1和R2均是氢或(低级)烷氧基,或者R1和R2连在一起形成亚甲基二氧基;R4和R6均是氢或(低级)烷氧基;R5是氢或苯酚保护团,或是药用盐类,该方法包括包括步骤:
(a)分解下式中的异恶唑
其中R1、R2、R3、R4、R5、R6均如上述指定,R7是氢、囟素、(低级)烷氧羰基、羧基、氰基、三甲基甲硅烷基、苯磺酰基或苯氧羰基,R7的苯环上可带有一个或二个从(低级)烷基、囟素、(低级)烷氧基和三氟甲基中任意选择的取代基。开环后生成下式结构的化合物:
其中R1、R2、R3、R4、R5和R6均如前所述;
(b)选择性还原结构式XIc的腈生成下式结构化合物
其中R1、R2、R3、R4、R5和R6均如前所述,或者是其盐类;且如果R3是羧基保护团,就将其除去而生成R3是氢的结构式XId的化合物;再者
(c)通过氨基氮化然后再内酯化使结构式XId化合物环化生成下式结构化合物
其中R1、R2、R3、R4、R5和R6均如前所述。
2、根据权利要求1中的式Ⅻ的化合物的制备过程,其中包括在一惰性溶剂中,用下式结构的氧化腈
其中R7是氢、囟素、(低级)烷氧羰基、羧基、氰基、三甲基甲硅烷基、苯磺酰基或苯氧羰基,R7的苯环上可带有一个或二个从(低级)烷基、囟素、(低级)烷氧基和三氟甲基中任意选择的取代基,与其结构式如下的顺式烯烃反应
其中R3是氢或羧基保护团;R1、R2、R4、R5、R6均如权利要求32中所述,生成下式结构的异噁唑(1,2-氧氮杂茂)
其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7均如上述指定。
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