[实用新型]一种用于氮化镓晶片双面研磨的行星轮及装置有效

专利信息
申请号: 202320181634.6 申请日: 2023-02-10
公开(公告)号: CN219275526U 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 刘俩;陆燕飞;李骏杰;秦博龙 申请(专利权)人: 无锡吴越半导体有限公司
主分类号: B24B37/08 分类号: B24B37/08;B24B37/11;B24B37/34
代理公司: 无锡智麦知识产权代理事务所(普通合伙) 32492 代理人: 宋雪莹
地址: 214000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 氮化 晶片 双面 研磨 行星 装置
【权利要求书】:

1.一种用于氮化镓晶片双面研磨的行星轮,包括行星轮本体,所述行星轮本体为硬质材料,其特征在于:所述行星轮本体设有若干个用于放置氮化镓晶片的通孔,各所述通孔的孔壁具有一层柔性层。

2.根据权利要求1所述的行星轮,其特征在于:所述柔性层为硅胶层或阻尼布层。

3.根据权利要求1所述的行星轮,其特征在于:所述柔性层的厚度为200~500μm。

4.根据权利要求1所述的行星轮,其特征在于:各所述通孔的直径为氮化镓晶片直径的1.001~1.01倍。

5.根据权利要求4所述的行星轮,其特征在于:各所述通孔的直径为氮化镓晶片直径的1.003~1.008倍。

6.根据权利要求1所述的行星轮,其特征在于:所述行星轮的厚度为300~800μm。

7.根据权利要求1所述的行星轮,其特征在于:所述通孔的数量为3~24个。

8.一种用于氮化镓晶片双面研磨的装置,其特征在于:包括内齿圈、太阳轮、第一研磨盘、第二研磨盘和若干个如权利要求1~7任一所述的行星轮,其中,各所述行星轮分别与内齿圈和太阳轮啮合,第一研磨盘和第二研磨盘分别位于所述行星轮的相对两侧。

9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于:所述行星轮的数量为3~6个。

10.根据权利要求8所述的装置,其特征在于:第一研磨盘的自转方向与第二研磨盘的自转方向相反,内齿圈的自转方向与太阳轮的自转方向相反。

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