[实用新型]一种支撑底座及等离子蚀刻机有效

专利信息
申请号: 202320158710.1 申请日: 2023-02-07
公开(公告)号: CN219588441U 公开(公告)日: 2023-08-25
发明(设计)人: 骆晔 申请(专利权)人: 迈捷克纳米科技(苏州)有限公司
主分类号: F16M7/00 分类号: F16M7/00;F16F15/02;F16F15/067
代理公司: 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 代理人: 徐婧
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 支撑 底座 等离子 蚀刻
【权利要求书】:

1.一种支撑底座,其特征在于:所述支撑底座包括:

支撑腿(2),所述支撑腿(2)设有四个,四个所述支撑腿(2)同一端固定连接有等离子刻蚀机(1),每个所述支撑腿(2)的内部设有阻尼减震器(11);

连接柱(3),一端与支撑腿(2)相连接,所述连接柱(3)远离支撑腿(2)的一端侧壁上开设有螺纹槽一(10)和环形槽(12);及

调节螺杆(5),与连接柱(3)相连接,所述调节螺杆(5)连接有调节环(4)和固定板(6)。

2.根据权利要求1所述的一种支撑底座,其特征在于:所述支撑腿(2)的内部开设有安装槽(8),所述安装槽(8)远离等离子刻蚀机(1)的一端内壁上开设有通孔(9)。

3.根据权利要求2所述的一种支撑底座,其特征在于:所述阻尼减震器(11)的一端与安装槽(8)靠近离子刻蚀机(1)的一端内壁固定连接,所述阻尼减震器(11)的另一端与连接柱(3)位于安装槽(8)的一端固定连接。

4.根据权利要求2所述的一种支撑底座,其特征在于:所述连接柱(3)的另一端竖向穿过通孔(9),所述连接柱(3)通过螺纹槽一(10)与调节螺杆(5)的一端螺纹连接,所述螺纹槽一(10)位于环形槽(12)内侧。

5.根据权利要求1所述的一种支撑底座,其特征在于:所述调节环(4)套接在调节螺杆(5)的外壁上,所述调节环(4)的内圈开设有螺纹槽二(14),所述调节环(4)的外圈侧壁上设有若干个均匀分布的橡胶条(13)。

6.根据权利要求1所述的一种支撑底座,其特征在于:所述调节环(4)靠近连接柱(3)的一端侧壁上固定连接有凸块(15),所述凸块(15)呈环形,所述凸块(15)与环形槽(12)相连接。

7.根据权利要求1所述的一种支撑底座,其特征在于:所述固定板(6)与调节螺杆(5)相对的侧壁上固定连接有防滑垫(7)。

8.一种等离子蚀刻机,其特征在于:包括上述权利要求1-7中任意一项所述的支撑底座。

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