[发明专利]一种利用激光在弧形体表面连续极速密集制备微孔的方法在审

专利信息
申请号: 202310933646.4 申请日: 2023-07-27
公开(公告)号: CN116652418A 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 马勇;韩体壮;宋庆;徐文雷;夏正新 申请(专利权)人: 马勇
主分类号: B23K26/382 分类号: B23K26/382
代理公司: 湖北百科百瑞专利代理事务所(普通合伙) 42288 代理人: 柳蒋琼
地址: 442100 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 激光 弧形 体表 连续 密集 制备 微孔 方法
【权利要求书】:

1.一种利用激光在弧形体表面连续极速密集制备微孔的方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤:

制作三维路径图,并将三维路径分段;

设计3D激光器的操作参数;

启动3D激光器根据操作参数沿着三维路径进行打孔。

2.根据权利要求1所述的一种利用激光在弧形体表面连续极速密集制备微孔的方法,其特征在于:将三维路径分段为1-500微米的直线。

3.根据权利要求1所述的一种利用激光在弧形体表面连续极速密集制备微孔的方法,其特征在于:将三维路径分段为1-500微米的螺纹线。

4.根据权利要求1所述的一种利用激光在弧形体表面连续极速密集制备微孔的方法,其特征在于:将三维路径分段为1-500微米的曲线。

5.根据权利要求1所述的一种利用激光在弧形体表面连续极速密集制备微孔的方法,其特征在于:3D激光器的操作参数包括:频率、空走速度、激光出光速度、每个点停留时间以及激光器的能量功率。

6.根据权利要求5所述的一种利用激光在弧形体表面连续极速密集制备微孔的方法,其特征在于:所述频率为50HZ-100KHZ。

7.根据权利要求5所述的一种利用激光在弧形体表面连续极速密集制备微孔的方法,其特征在于:所述空走速度为1纳秒-500毫秒。

8.根据权利要求5所述的一种利用激光在弧形体表面连续极速密集制备微孔的方法,其特征在于:所述激光出光速度为1纳秒-500毫秒。

9.根据权利要求5所述的一种利用激光在弧形体表面连续极速密集制备微孔的方法,其特征在于:所述每个点停留时间1纳秒-500毫秒。

10.根据权利要求5所述的一种利用激光在弧形体表面连续极速密集制备微孔的方法,其特征在于:所述激光器的能量功率占激光器总功率的1%-100%。

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