[发明专利]X射线源以及用于产生X射线辐射的方法在审
| 申请号: | 202310689884.5 | 申请日: | 2018-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN116504601A | 公开(公告)日: | 2023-07-28 |
| 发明(设计)人: | 比约恩·汉森;波尔·塔克曼;王育立;田中志穂 | 申请(专利权)人: | 伊克斯拉姆公司 |
| 主分类号: | H01J35/08 | 分类号: | H01J35/08;H01J35/14 |
| 代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 李健;张奎燕 |
| 地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 射线 以及 用于 产生 辐射 方法 | ||
1.一种X射线源,包括:
液体靶标源,该液体靶标源被配置为经由通过该液体靶标源的喷嘴喷射液体来提供沿流动轴线移动的液体靶标;
电子源,该电子源被配置为提供电子束;以及
液体靶标成形器,该液体靶标成形器被配置为使该液体靶标成形为包括在垂直于该流动轴线的平面中的非圆形截面,其中,该非圆形截面具有沿第一轴线的第一宽度以及沿第二轴线的第二宽度,其中,该第一宽度短于该第二宽度,并且其中,该液体靶标包括与该第一轴线相交的撞击部分;
其中,该X射线源被配置为将该电子束引导朝向该撞击部分,使得该电子束与该液体靶标在该撞击部分内相互作用以产生X射线辐射;并且
该X射线源进一步包括:
被配置为在该撞击部分内移动该电子束与该液体靶标相互作用的位置的装置;
适于将液体靶标源中的压力升高到至少50巴以产生液体靶标的泵。
2.根据权利要求1所述的X射线源,其中,第二宽度为至少150μm。
3.根据权利要求1所述的X射线源,其中,第二宽度为至少500μm。
4.根据权利要求1所述的X射线源,其中,第二宽度在150μm至1000μm的范围内。
5.根据权利要求1所述的X射线源,其中,第二宽度在250μm至1000μm的范围内。
6.根据权利要求1所述的X射线源,其中,第二宽度在500μm至1000μm的范围内。
7.根据权利要求1所述的X射线源,其中,第二宽度与第一宽度之间的比率为至少5。
8.根据权利要求1所述的X射线源,其中,喷嘴具有非圆形开口,以便使该液体靶标成形为包括非圆形截面。
9.根据权利要求8所述的X射线源,其中,该非圆形开口具有选自包括以下各项的组的形状:椭圆形、矩形、正方形、六边形、卵形、体育场形和具有圆角的矩形。
10.根据权利要求1所述的X射线源,其中,该液体靶标成形器包括磁场发生器,该磁场发生器被配置为产生用于使该液体靶标成形为包括该非圆形截面的磁场。
11.根据权利要求1所述的X射线源,其中,该液体是金属或合金。
12.一种用于产生X射线辐射的方法,该方法包括:
提供电子束;
经由通过喷嘴喷射液体来提供沿流动轴线移动的液体靶标,该液体靶标包括在垂直于该流动轴线的平面中的非圆形截面,其中,该非圆形截面具有沿第一轴线的第一宽度以及沿第二轴线的第二宽度,其中,该第一宽度短于该第二宽度,并且其中,该液体靶标包括与该第一轴线相交的撞击部分;
将该电子束引导朝向该撞击部分,使得该电子束与该液体靶标在该撞击部分内相互作用以产生X射线辐射;以及
在该撞击部分内移动该电子束与该液体靶标相互作用的位置;
其中,液体通过喷嘴以至少50巴的压力喷射。
13.根据权利要求12所述的方法,其中,第二宽度为至少150μm。
14.根据权利要求12所述的方法,其中,第二宽度为至少500μm。
15.根据权利要求12所述的方法,其中,第二宽度在150μm至1000μm的范围内。
16.根据权利要求12所述的方法,其中,第二宽度在250μm至1000μm的范围内。
17.根据权利要求12所述的方法,其中,第二宽度在500μm至1000μm的范围内。
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