[发明专利]单晶炉双相复合换热器、单晶炉和换热方法有效
申请号: | 202310678043.4 | 申请日: | 2023-06-09 |
公开(公告)号: | CN116428902B | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | 李林东;魏子涵;陈伟;陈志军;吴超慧;张鹏;丁云飞;许堃 | 申请(专利权)人: | 苏州晨晖智能设备有限公司 |
主分类号: | F28D21/00 | 分类号: | F28D21/00;C30B15/00;C30B15/20;C30B29/06 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 杨勋 |
地址: | 215000 江苏省苏州市自由贸易试验区中国*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单晶炉双相 复合 换热器 单晶炉 方法 | ||
本发明涉及半导体技术领域,具体而言,涉及一种单晶炉双相复合换热器、单晶炉和换热方法;单晶炉双相复合换热器包括换热壳体和分隔板,换热壳体包括相互连接且间隔分布的内壳和外壳,内壳的内壁和外壳的内壁之间形成换热腔,内壳的外壁围合形成提拉通道;分隔板连接于内壳的内壁和外壳的内壁之间,用于将换热腔分隔为水冷换热腔和相变换热腔,其中,水冷换热腔位于相变换热腔的上方,水冷换热腔用于循环冷却水,相变换热腔用于盛装有机换热介质、并用于容纳有机换热介质挥发形成的气相换热介质。本发明的单晶炉双相复合换热器和换热方法能够稳定、可靠地控制纵向温度梯度,以保证晶体在高拉速下稳定地生长,提高晶体生产效率。
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,具体而言,涉及一种单晶炉双相复合换热器、单晶炉和换热方法。
背景技术
直拉法生长单晶硅是目前应用较广的一种单晶硅生产技术。用直拉法生长单晶硅时,单晶炉为核心生产设备之一;现有技术提供的单晶炉包括加热器、坩埚和提拉头;加热器设置在坩埚的外侧,用于对坩埚加热,而硅料则在坩埚内受热熔化形成硅熔体;提拉头将籽晶浸入硅熔体中,在籽晶下方生长并提拉单晶棒。
采用直拉法生长单晶硅时,降低成本最直接的方式即为提高生产效率;而提高晶体生长的速度是提高生产效率最主要的方法之一。又有相关技术为了提高晶体生长的速度,给单晶炉配置了换热器,以利用换热器带走结晶释放的潜热,增加晶体纵向温度梯度,以提高晶体生长速度。
但是,相关技术提供的换热器对于纵向温度梯度的提高效果有限,且不便于稳定地控制纵向温度梯度,难以保证晶体在高拉速下稳定地生长,即难以保证晶体高质量的快速生长。
发明内容
本发明的目的在于提供一种单晶炉双相复合换热器、单晶炉和换热方法,该单晶炉双相复合换热器和对应的换热方法能够稳定、可靠地控制纵向温度梯度,以保证晶体在高拉速下稳定地生长,即保证晶体高质量的快速生长,提高晶体生产效率。
本发明的实施例是这样实现的:
第一方面,本发明提供一种单晶炉双相复合换热器,包括:
换热壳体,换热壳体包括相互连接且间隔分布的内壳和外壳,内壳的内壁和外壳的内壁之间形成换热腔,内壳的外壁围合形成提拉通道;
分隔板,分隔板连接于内壳的内壁和外壳的内壁之间,用于将换热腔分隔为水冷换热腔和相变换热腔,其中,水冷换热腔位于相变换热腔的上方,水冷换热腔用于循环冷却水,相变换热腔用于盛装有机换热介质、并用于容纳有机换热介质挥发形成的气相换热介质。
在可选的实施方式中,分隔板朝向相变换热腔的一侧设置有多个凹槽。
在可选的实施方式中,多个凹槽的总面积占分隔板朝向相变换热腔的一侧的表面积的60-70%。
在可选的实施方式中,单晶炉双相复合换热器还包括底板,底板连接于内壳和外壳之间,且底板分布于相变换热腔远离分隔板的一端;
底板朝向相变换热腔的一侧连接有多个凸起。
在可选的实施方式中,多个凸起的总面积占底板朝向所述相变换热腔的一侧的表面积的50-60%。
在可选的实施方式中,凸起的高度大于或等于0.1mm。
在可选的实施方式中,凸起由疏水材料制备,底板由亲水材料制备。
在可选的实施方式中,相变换热腔包括从上至下依次连通的气相区和液相区,内壳包括依次连接的第一段和第二段,外壳包括依次连接的第三段和第四段,第一段和第三段相对且间隔设置,且两者之间形成气相区,气相区用于容纳气相换热介质;第二段和第四段相对且间隔设置,且两者之间形成液相区,液相区用于盛装有机换热介质;其中,
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