[发明专利]一种改性纳米二氧化硅离心洗涤装置

说明书

本发明提供一种改性纳米二氧化硅离心洗涤装置，包括底板，所述底板顶面固定有外桶，外桶底面贯通连接有排水管，外桶内部贯穿连接有第一转轴，第一转轴外壁套接固定有第二传动轮，底板顶面设置有驱动组件，驱动组件与第二传动轮连接用以驱动第一转轴转动，第一转轴底端转动连接于底板顶面，底板顶面设置有具有升降结构的密封组件。本发明通过内桶上设置两个第一滤板，能够在内桶旋转时，对改性纳米二氧化硅的进行离心洗涤和过滤，同时通过离散组件在第一滤板的内侧转动，对靠近第一滤板内侧的改性纳米二氧化硅进行扰流搅动，有效避免洗涤过的改性纳米二氧化硅重新聚集在第一滤板上，保证改性纳米二氧化硅的分散性。

技术领域

本发明涉及纳米二氧化硅加工技术领域，具体涉及一种改性纳米二氧化硅离心洗涤装置。

背景技术

改性纳米二氧化硅是通过在纳米二氧化硅颗粒表面引入不同的化学修饰剂或功能性分子，对其进行表面改性的过程。这种改性可以改变纳米二氧化硅的表面性质、增强其功能性，并在特定应用中提供更好的性能。改性纳米二氧化硅的表面修饰可以通过吸附、共价键合或静电相互作用等方式实现。改性纳米二氧化硅的具体应用取决于所引入的修饰剂和功能性分子的性质。它可以用于药物传递系统、生物成像、传感器、催化剂、涂料、复合材料和环境净化等领域。这些改性方法使得纳米二氧化硅能够更好地满足特定应用的需求，并拓展了其在科学和工程中的应用前景。

在改性过程中，可能会使用各种化学试剂和表面修饰剂，这些物质可能会残留在纳米二氧化硅颗粒表面。通过洗涤，可以有效去除这些残留物，以保证纳米二氧化硅的纯度和稳定性。洗涤是改性纳米二氧化硅加工过程中的关键步骤，可以去除残留物、杂质和溶剂，提高纳米二氧化硅的纯度和质量，并对其表面性质进行调控，以确保最终产品的性能和应用的稳定性。

在对改性的纳米二氧化硅进行洗涤的过程中，由于纳米二氧化硅颗粒的高表面能和表面活性剂的存在，利用一般的洗涤装置洗涤时，纳米二氧化硅颗粒容易悬浮聚集现象，不利于纳米二氧化硅颗粒表面清理，从而降低了洗涤效率和效果。目前会采用离心洗涤装置进行洗涤，利用离心力将悬浮的纳米二氧化硅颗粒迅速沉降，从而实现更高效的颗粒洗涤。相比较传统的洗涤装置，离心洗涤装置可以更有效地去除残留物和杂质，提高纳米二氧化硅的纯度，但目前的离心洗涤装置还存在以下问题：

离心洗涤装置的高速旋转可能导致颗粒重新聚集或沉积在转筒内壁上，难以维持纳米二氧化硅的分散性，从而影响纳米二氧化硅在后续应用中的性能。

综上，目前需要一种能保持高离散性洗涤改性纳米二氧化硅的离心洗涤装置。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供了一种改性纳米二氧化硅离心洗涤装置，解决了背景技术中提到的问题。

为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：

一种改性纳米二氧化硅离心洗涤装置，包括底板，所述底板顶面固定有外桶，外桶底面贯通连接有排水管，外桶内部贯穿连接有第一转轴，第一转轴外壁套接固定有第二传动轮，底板顶面设置有驱动组件，驱动组件与第二传动轮连接用以驱动第一转轴转动，第一转轴底端转动连接于底板顶面，底板顶面设置有具有升降结构的密封组件，密封组件用以封闭外桶顶面开口；

所述外桶内部设置有洗涤机构，洗涤机构包括内桶、第一滤板以及离散组件，第一转轴插接于内桶内部，内桶内壁设置有两个开口结构，两个开口结构内部均设置有第一滤板，内桶内壁连接有离散组件，离散组件设置于第一滤板内侧，离散组件用以于第一滤板内侧转动扰流。

进一步的，所述离散组件包括齿轮、第二转轴、固定柱以及刮板，所述固定柱内部贯穿连接有第二转轴，第二转轴外壁固定有齿轮，固定柱外壁固定有刮板，外桶内壁固定有齿环，齿轮一侧与齿环啮合连接，内桶内壁连接有轴套，轴套沿竖直方向设置有两个，两个轴套均套接于第二转轴外壁，两个轴套为一个轴套组，轴套组镜像设置有两组。

进一步的，所述刮板为T字形结构，刮板沿固定柱圆周方向设置有多个。