[发明专利]一种基于LC-MS对On-DNA化学反应中DNA损伤的分析方法在审

专利信息
申请号: 202310559905.1 申请日: 2023-05-15
公开(公告)号: CN116626189A 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 马杭柯;胡允金;薛丽俊;孙兆美;袁晶玉;陈冰馨;俞佳清;杨珂新 申请(专利权)人: 康龙化成(宁波)科技发展有限公司;康龙化成(北京)新药技术股份有限公司
主分类号: G01N30/02 分类号: G01N30/02;G01N30/06;G01N30/72
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 石芳
地址: 315000 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 lc ms on dna 化学反应 损伤 分析 方法
【权利要求书】:

1.一种基于LC-MS对On-DNA化学反应中DNA损伤的分析方法,其特征在于,其包括:选取用于进行On-DNA化学反应的DNA标签,作为内参样品;

选择特定的DNA片段作为标准品,且所述标准品的LC-MS图谱与所述内参样品的LC-MS图谱中的检测信号响应不重合;

配制一组含有所述标准品与所述内参样品的标准液,所述标准液中标准品与内参样品的摩尔比依次递减;

将所述标准液进行LC-MS分析,以标准品与内参样品的摩尔比为横坐标,以标准品与内参样品的LC-MS的检测信号响应的比值为纵坐标,进行回归分析,得到标准工作曲线;

利用所述内参样品进行On-DNA化学反应后,对反应液进行前处理,得到待测样品液,再与标准品混合后,在相同条件下进行LC-MS分析,得到检测信号响应,带入所述标准工作曲线,计算得到待测样品液中所述内参样品的物质的量,从而得到所述内参样品的回收率,并通过所述回收率以及所述内参样品的检测信号响应的变化来判断所述内参样品的DNA损伤情况。

2.根据权利要求1所述的基于LC-MS对On-DNA化学反应中DNA损伤的分析方法,其特征在于,在制作所述标准工作曲线时,所述检测信号响应为LC-MS检测图谱中的UV信号峰和Mass信号峰的峰面积或峰高。

3.根据权利要求2所述的基于LC-MS对On-DNA化学反应中DNA损伤的分析方法,其特征在于,在制作所述标准工作曲线时,所述纵坐标的检测信号响应的比值=标准品的(UV峰面积×Mass峰面积)/内参样品的(UV峰面积×Mass峰面积)。

4.根据权利要求1所述的基于LC-MS对On-DNA化学反应中DNA损伤的分析方法,其特征在于,所述标准品和所述内参样品皆为DNA或On-DNA化合物,且所述内参样品与所述标准品的液相色谱峰的分离度1.5,且质谱峰不重合。

5.根据权利要求4所述的基于LC-MS对On-DNA化学反应中DNA损伤的分析方法,其特征在于,在制备所述内参样品的过程中,采用氨基保护基团对作为所述DNA标签进行氨基保护处理。

6.根据权利要求5所述的基于LC-MS对On-DNA化学反应中DNA损伤的分析方法,其特征在于,在制备所述内参样品时采用的所述氨基保护基团包括乙酰基、邻苯二甲酰基、对甲苯磺酰基、三氟乙酰基、硝基苯磺酰基中的至少一种。

7.根据权利要求6所述的基于LC-MS对On-DNA化学反应中DNA损伤的分析方法,其特征在于,所述内参样品的结构为:

8.根据权利要求1所述的基于LC-MS对On-DNA化学反应中DNA损伤的分析方法,其特征在于,所述标准液中所述标准品的物质的量为1pmol-1nmol,所述内参样品的物质的量为1pmol-100nmol。

9.根据权利要求1所述的基于LC-MS对On-DNA化学反应中DNA损伤的分析方法,其特征在于,所述分析方法还包括:

配置含有所述内参样品的阴性对照液,将阴性对照液与标准品混合,在相同条件下进行LC-MS分析,得到检测信号强度,带入所述标准工作曲线,计算得到阴性回收率。

10.根据权利要求1所述的基于LC-MS对On-DNA化学反应中DNA损伤的分析方法,其特征在于,所述LC-MS的色谱条件为:

流动相A:通过将六氟异丙醇、二异丙基乙胺和EDTA溶解在水里得到;

流动相B:甲醇;

流速:0.3~0.8mL/min;

检测波长:250~270nm;

电喷雾电离探针温度为280~320℃,源温度为330~370℃;

ESI毛细管为-18~-22kV;

质量检测器在700-2000(m/z)范围内以负离子全扫描模式运行。

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