[发明专利]具有窄带光吸收的高能激光/微波一体化防护天线罩在审

专利信息
申请号: 202310454879.6 申请日: 2023-04-25
公开(公告)号: CN116505255A 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 黄贤俊;文奎;梁圆龙;黄文涛;刘文聪;刘培国 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: H01Q1/42 分类号: H01Q1/42;H01Q17/00;H05K9/00
代理公司: 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 代理人: 莫一乐
地址: 410073 湖*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 窄带 光吸收 高能 激光 微波 一体化 防护 天线罩
【说明书】:

本申请涉及一种具有窄带光吸收的高能激光/微波一体化防护天线罩,通过在金属薄膜上刻蚀上不同尺寸的亚波长(0.01‑2倍波长)开孔阵列结构,激发表面等离子体,形成对特定波长光的表面等离子体增强透光效果,同时调控大气窗口红外透射峰的移动,达到对不同波段的电磁波滤波的效果,并且金属薄膜上除了开孔结构外的金属部分形成连续的导电结构对电磁波的启到屏蔽效果,在此同时,该天线防护罩还包括在金属薄膜一侧表面上镀制有厚度为0.1‑0.6um的石英薄膜,使其能够基于谐振腔特性实现在红外响应波段内的吸收效果,并且通过对其厚度的不同选择以实现窄带吸收波段和吸收通道数量的可调,使得天线防护罩应用场景更为宽泛,并且起到更好的防护效果。

技术领域

本申请涉及电磁防护技术领域,特别是涉及一种具有窄带光吸收的高能激光/微波一体化防护天线罩。

背景技术

光电探测系统正向着微型化、高精度、智能化的方向发展。随着应用的深入,频带资源逐渐陷入贫乏,不同设备之间的信号干扰愈加明显。作为其眼睛的光窗口而言,实现红外高透过与超宽带电磁屏蔽功能必不可少。与此同时,复杂的应用场景和环境,愈加推动其朝着多功能化、集成化和可控化的趋势发展。其中,电磁屏蔽技术是通过合理的电磁屏蔽手段来减小电磁干扰及带来的危害,目的在于利用屏蔽材料或手段阻隔或衰弱被保护区域与外界的电磁信号传播。滤波片作为一种光学频率选择器件,可通过特定波长的电磁波,达到滤波和吸波的作用。其结构形式有网栅结构和多层膜系结构等,称之为传统型频率选择器件。

通常网栅型结构会存在红外透过率与电磁屏蔽性能之间相互制约的关系,很难实现红外透过率与微波屏蔽效能的兼容性;另外,基于网栅型结构的电磁屏蔽材料具有高通滤波特性,因此会带来屏蔽带宽受限等问题;同样的,多层膜系结构则存在结构整体膜系厚度过大和膜系间的粘合不牢导致不同材料的膜层间容易脱落等问题。因此针对传统型金属或介质滤波片的上述局限性,亟需开发新的材料或结构使其兼顾红外高透过和高屏蔽性能,同时还具备超宽带和结构简易性等特征。

发明内容

基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种能够对红外光进行高透过,对超宽电磁进行屏蔽的同时还可以在红外响应波段内的窄带进行吸收效果的具有窄带光吸收的高能激光/微波一体化防护天线罩。

一种具有窄带光吸收的高能激光/微波一体化防护天线罩,包括:金属薄膜,以及镀制在所述金属薄膜一侧表面的透明薄膜;

所述金属薄膜上设置有多个周期性排列的透光单元,各所述透光单元为贯穿所述金属薄膜厚度方向,尺寸为亚波长的圆形开孔结构,各所述圆形开孔结构均具有相同的尺寸,所述连续导电结构为所述金属薄膜上除了所述透光单元其余的金属部分;

所述金属薄膜的厚度为0.1um;

所述透明薄膜采用石英材料,其厚度为0.1-0.6um。

在其中一实施例中,各所述透光单元的半径为1.4um。

在其中一实施例中,各所述透光单元中心之间的距离为3um。

在其中一实施例中,所述金属薄膜采用金材料。

上述具有窄带光吸收的高能激光/微波一体化防护天线罩,通过在金属薄膜上刻蚀上不同尺寸的亚波长(0.01-2倍波长)开孔阵列结构,激发表面等离子体,形成对特定波长光的表面等离子体增强透光效果,同时调控大气窗口红外透射峰的移动,达到对不同波段的电磁波滤波的效果,并且金属薄膜上除了开孔结构外的金属部分形成连续的导电结构对电磁波的启到屏蔽效果,在此同时,该天线防护罩还包括在金属薄膜一侧表面上镀制有厚度为0.1-0.6um的石英薄膜,使其能够基于谐振腔特性实现在红外响应波段内的吸收效果,并且通过对其厚度的不同选择以实现窄带吸收波段和吸收通道数量的可调,使得本发明的中的天线防护罩应用场景更为宽泛,并且起到更好的防护效果。

附图说明

图1为其中一实施例中天线防护罩的结构示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科技大学,未经中国人民解放军国防科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310454879.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top