[发明专利]低温等离子体HgCl2 在审
申请号: | 202310414017.0 | 申请日: | 2023-04-18 |
公开(公告)号: | CN116550254A | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | 韩立鹏;钟犁;周玉星;段钰锋;耿新泽 | 申请(专利权)人: | 北京华能长江环保科技研究院有限公司;东南大学 |
主分类号: | B01J19/08 | 分类号: | B01J19/08;B01J19/00;B01J4/00;C01G13/04;G01N21/31;G01N21/27;G01N21/64 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 赵迪 |
地址: | 102200 北京市昌平区*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 低温 等离子体 hgcl base sub | ||
本发明公开一种低温等离子体HgClsubgt;2/subgt;连续发生装置,低温等离子体HgClsubgt;2/subgt;连续发生装置包括混气室、等离子体反应区和降温装置,气体在所述混气室内混合均匀,所述等离子体反应区的第一端通过进气管与所述混气室相连通,所述等离子体反应区的第二端与出气管连通,所述等离子体反应区包括内介质和外介质,所述内介质和所述外介质之间形成环形反应区,所述混气室的气体进入所述环形反应区,所述降温装置用于降低所述等离子体反应区的温度。本发明提供的低温等离子体HgClsubgt;2/subgt;连续发生装置具备能耗低、反应稳定的优点。
技术领域
本发明涉及燃煤污染物汞在线监测领域技术领域,尤其涉及一种低温等离子体HgCl2连续发生装置。
背景技术
目前煤炭仍然是我们国家的主要能源,利用价值高,应用领域广,工业方面的电厂发电以及锅炉燃烧供热都需要煤炭。与此同时,煤炭燃烧产生的污染气体种类也十分多,其中汞及其化合物是一种剧毒污染物,具有生物累积性及在环境中长距离迁移的特性,其可以通过呼吸吸入,皮肤吸附或食物摄入的方式进入体内,危害人的中枢神经系统。汞污染源主要源自天然释放、人为排放和二次释放等,其中人为排放的汞约占3/4,而燃煤电站是全球最大的人为汞排放源。
目前相关技术中,燃煤电厂汞排放浓度检测方法主要有湿化学方法(OHM)、EPA-30B方法和汞在线监测系统(Hg-CEMS)。前两种方法是离线测量方法,后者是在线测量方法。目前汞的原子吸收光谱、原子荧光光谱检测原理仅能测定Hg0,Hg2+的测定需要将其转化为Hg0间接测定。Hg2+标气的发生则是准确测定Hg2+的核心技术之一。目前商用的Hg2+标气发生技术通常是利用含氯气源在高温的条件下反应得到Hg2+标准气体。采用氯气作为Cl源在高温下会发生可逆反应;采用HCl作为Cl源反应温度高,温度窗口窄。这两种方法都需要使用催化剂,但催化剂使用一定时间后会失活,因此需要定期跟换。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本发明的实施例提出一种低温等离子体HgCl2连续发生装置,该低温等离子体HgCl2连续发生装置具有能耗低、反应稳定的优点。
根据本发明实施例的低温等离子体HgCl2连续发生装置,低温等离子体HgCl2连续发生装置包括混气室、等离子体反应区和降温装置,气体在所述混气室内混合均匀,所述等离子体反应区的第一端通过进气管与所述混气室相连通,所述等离子体反应区的第二端与出气管连通,所述等离子体反应区包括内介质和外介质,所述内介质和所述外介质之间形成环形反应区,所述混气室的气体进入所述环形反应区,所述降温装置用于降低所述等离子体反应区的温度。
根据本发明实施例的低温等离子体HgCl2连续发生装置具有能耗低、反应稳定的优点。
在一些实施例中,所述混气室具有第一配气管和第二配气管,所述第一配气管输送Hg,所述第二配气管输送Cl源。
在一些实施例中,所述第一配气管进入所述混气室的深度大于所述第二配气管进入所述混气室的深度。
在一些实施例中,所述第二配气管有两个,两个所述第二配气管关于所述第一配气管对称。
在一些实施例中,所述等离子体反应区的第一端设有金属导体网筛。
在一些实施例中,所述内介质与所述外介质之间的距离0~8mm,所述等离子体反应区的长度0~1000mm。
在一些实施例中,所述外介质的内壁面设有内螺纹结构,所述内介质的外壁面设有外螺纹结构,所述内螺纹结构和所述外螺纹结构为正旋螺纹。
在一些实施例中,还包括隔离件,所述隔离件设置在所述进气管的下方和所述出气管的上方。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京华能长江环保科技研究院有限公司;东南大学,未经北京华能长江环保科技研究院有限公司;东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310414017.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。