[发明专利]一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖及其制备方法

权利要求书

1.一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

A、将坯体原料通过立式干磨机研磨获得细粉，将细粉加湿造粒获得坯料；

B、将基础釉原料加水球磨，过筛获得基础釉浆；其中，按照质量份数计算，所述基础釉原料包括混合坭9～11份、膨润土1～3份、钾钠砂34～38份、钠砂11～15份、黑滑石5.5～6.5份和水洗高岭土31～35份；

C、制备遮盖釉；其中，按照质量份数计算，所述遮盖釉包括基础釉原料68～72份、釉用高岭土2～4份、煅烧氧化铝14～16份、石英0～2份、烧滑石5.5～6.5份和钠长石4～6份；

D、制备发色釉；其中，按照质量份数计算，所述发色釉包括基础釉原料48～52份、釉用高岭土2～4份、煅烧氧化铝14～16份、石英1～3份、烧滑石0.5～1.5份和钠长石28～30份；

E、制备装饰釉；

F、将步骤A的坯料压制成型，干燥形成坯体层；在坯体层的顶部布施遮盖釉，形成遮盖釉层；在遮盖釉层的顶部布施发色釉，形成发色釉层；在发色釉层的顶部布施装饰釉，形成装饰釉层；入窑烧制，得到低吸水率釉面砖。

2.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤B中，按照质量百分比，所述基础釉浆的水分含量为33～37%。

3.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤B中，按照质量百分比，所述基础釉浆的细度为过325目筛，筛余0.8～1.2％。

4.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤B中，将基础釉原料加水球磨，依次过20目筛、40目筛、60目筛、80目筛和100目筛获得基础釉浆。

5.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤F中，所述遮盖釉的施釉量为225～300g/m²。

6.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤F中，所述发色釉的施釉量为225～300g/m²。

7.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，

步骤B中，按照质量份数计算，所述基础釉原料包括混合坭10份、膨润土2份、钾钠砂36份、钠砂13份、黑滑石6份和水洗高岭土33份；

步骤C中，按照质量份数计算，所述遮盖釉包括基础釉原料70份、釉用高岭土3份、煅烧氧化铝16份、石英2份、烧滑石6份和钠长石5份；

步骤D中，按照质量份数计算，所述发色釉包括基础釉原料50份、釉用高岭土3份、煅烧氧化铝16份、石英2份、烧滑石1份和钠长石29份。

8.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤A中，按照质量份数计算，所述坯料包括膨润土9～11份、黄砂19～23份、青砂32～36份、白砂8～12份、镁质土2～4份、钾钠砂4～6份、铝石粉7～9份和铝矾土8～10份。

9.根据权利要求8所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，按照质量百分比，所述青砂的氧化铁含量为2.6～2.8%，氧化镁含量为1.2～1.5%，氧化钾含量为1.4～1.5%，氧化钠含量为3.6～4.0%；

步骤A中，按照质量百分比，所述坯料的颗粒级配为：20目筛网筛余≤2%、40目筛网筛余30～45％、60目筛网筛余50～70％、100目筛网筛余≥80%。

10.一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖，其特征在于，使用权利要求1～9任意一项所述的基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法制备而成，所述低吸水率釉面砖的吸水率≤0.1%，所述遮盖釉层的光泽度为2～4度。