[发明专利]提高薄膜高吸附性能的系统

权利要求书

1.一种提高薄膜高吸附性能的系统，包括薄膜，所述薄膜为应用于薄膜电容器使用的金属化薄膜，是将薄膜置于含氧气氛围或惰性气体氛围存在条件下进行超高压电离电极处理，其特征是，包括：

（1）利用导辊装置将薄膜拉伸平整，对薄膜表面进行除杂、除尘、防水处理，为表面处理薄膜；

（2）制活化处理薄膜，将表面处理薄膜置于吸附性溶液中，在吸附性溶液中进行吸附掁荡处理，为吸附性薄膜；

（3）将吸附性薄膜放卷置于含氧气氛围或惰性气体氛围存在条件下，采用超高压电离装置对位于两导辊之间的吸附性薄膜的表面进行超高压电离处理，电离处理薄膜；

（4）将电离处理薄膜经除静电装置，进行除静电处理为除静电薄膜，将除静电薄膜经功能化处理、干燥，由收卷装置收卷处理为高吸附性薄膜。

2.根据权利要求1所述提高薄膜高吸附性能的系统，其特征是控制放卷收卷速率为2-3.5 m/s。

3.根据权利要求1所述提高薄膜高吸附性能的系统，其特征是步骤2）吸附性溶液为乙醇和乙二胺的混合溶液或为乙醇和三乙烯四胺的混合溶液，控制乙醇和乙二胺或三乙烯四胺的质量比为100：3-6。

4.根据权利要求1所述提高薄膜高吸附性能的系统，其特征是控制经吸附掁荡处理得到的吸附性薄膜其表面湿润张力为35mN/m至60mN/m。

5.根据权利要求1所述提高薄膜高吸附性能的系统，其特征是控制高压电离处理时电压为30000~50000v；对吸附性薄膜的正反两面分别或同时进行高压电离处理。

6.根据权利要求1所述提高薄膜高吸附性能的系统，其特征是步骤2）控制吸附性溶液中进行振荡处理时间为10-60分钟。

7.根据权利要求1所述提高薄膜高吸附性能的系统，包括放卷装置、收卷装置、薄膜表面处理器、若干导辊、超高压电离电极、冷却系统及除静电装置；超高压电离电极设于放卷装置与收卷装置之间，其特征是所述活化振荡处理器和薄膜表面处理器，依次的设于高压电离电极之前。

8.根据权利要求7所述提高薄膜高吸附性能的系统，其特征是所述导辊为绝缘导辊；所述高压电离电极相对应或相错位的设于吸附性薄膜的正反两面位置。

9.根据权利要求7所述提高薄膜高吸附性能的系统，其特征是所述系统还包括冷却系统，所述冷却系统与高压电离电极相对应设置。