[发明专利]一种超高真空腔体的等离子清洗设备

说明书

本发明提供一种超高真空腔体的等离子清洗设备，包括等离子清洗机本体、安装在等离子清洗机本体内部上方的真空腔、通过铰链关节活动安装在等离子清洗机本体一侧顶部的密封门以及活动卡接在密封门一侧的活动卡块。本发明能够便于机械式转动驱动稳定，能够应对异形的超真空腔体支撑清洗，以解决现有真空腔内由于有电波因此内部放置超真空腔体时均采用基本的简易支架，但由于等离子发射器的阴极与阳极发电波轰击时内部不能增加电器件，导致真空腔内的超真空腔体无法转动均匀的受到等离子电波轰击，导致需要提高等离子清洗时间，同时由于部分结构件造型不规整，等离子接触面与轰击效果较差，会出现较大面积被支架遮挡影响等离子轰击清洗效率的问题。

技术领域

本发明涉及等离子清洗机技术领域，尤其涉及为一种超高真空腔体的等离子清洗设备。

背景技术

真空腔体是保持内部为真空状态的容器，真空腔体的制作要考虑容积、材质和形状。不锈钢是目前超高真空系统的主要结构材料。具有优良的抗腐蚀性、放气率低、无磁性、焊接性好、导电率和导热率低、能够在-270—900℃工作等优点，在高真空和超高真空系统中，应用广泛，其中超真空腔体即真空压力较高的腔体在加工过程中需要对表面进行等离子清洗便于内壁及表面的后续涂层涂覆保证真空性能，等离子清洗机也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面.以达到清洗目的。等离子清洗机的结构主要分为三个大的部分组成，分别是控制单元、真空腔体以及真空泵。其中真空腔体主要是分为两种材质的：不锈钢真空腔体和石英腔体。等离子清洗机优势有：清洗对象经等离子清洗之后是干燥的，不需要再经干燥处理即可送往下一道工序。可以提高整个工艺流水线的处理效率；等离子清洗使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题；避免使用三氯乙烷等ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法；采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同。等离子体的方向性不强，这使得它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务。

现有的技术中，真空腔内由于有电波因此内部放置超真空腔体时均采用基本的简易支架，但由于等离子发射器的阴极与阳极发电波轰击时内部不能增加电器件，导致真空腔内的超真空腔体无法转动均匀的受到等离子电波轰击，导致需要提高等离子清洗时间，同时由于部分结构件造型不规整，等离子接触面与轰击效果较差，会出现较大面积被支架遮挡影响等离子轰击清洗效率。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明目的是提供一种超高真空腔体的等离子清洗设备，能够便于机械式转动驱动稳定，能够应对异形的超真空腔体支撑清洗，以解决现有真空腔内由于有电波因此内部放置超真空腔体时均采用基本的简易支架，但由于等离子发射器的阴极与阳极发电波轰击时内部不能增加电器件，导致真空腔内的超真空腔体无法转动均匀的受到等离子电波轰击，导致需要提高等离子清洗时间，同时由于部分结构件造型不规整，等离子接触面与轰击效果较差，会出现较大面积被支架遮挡影响等离子轰击清洗效率的问题。