[发明专利]一种超高真空腔体的等离子清洗设备

权利要求书

1.一种超高真空腔体的等离子清洗设备，包括等离子清洗机本体(1)、安装在等离子清洗机本体(1)内部上方的真空腔(2)、通过铰链关节活动安装在等离子清洗机本体(1)一侧顶部的密封门(3)以及活动卡接在密封门(3)一侧的活动卡块(4)，其特征在于：所述真空腔(2)内壁底部插接有机械驱动盒(5)，所述机械驱动盒(5)内壁底部一侧焊接有安装架一(6)，所述安装架一(6)内部活动安装有驱动轴(7)，所述驱动轴(7)表面底部固定安装有斜齿一(8)，所述机械驱动盒(5)内壁底部远离安装架一(6)的一侧焊接有安装架二(9)，所述安装架二(9)内部活动安装有从动轴(10)，所述从动轴(10)表面焊接有转筒(11)，所述转筒(11)靠近斜齿一(8)的一侧键连接有与斜齿一(8)啮合的斜齿二(12)，所述转筒(11)表面远离斜齿二(12)的一侧焊接有环形等距离分布的卡柱(13)，所述卡柱(13)设置有十七个，所述机械驱动盒(5)内壁底部远离安装架二(9)的一侧转动安装有擒纵机构(14)，所述机械驱动盒(5)顶部通过螺栓固定安装有发条盒(15)，所述发条盒(15)内部设置有发条卷(16)，所述发条卷(16)一端与发条盒(15)内壁固定，所述发条卷(16)另一端与驱动轴(7)固定，所述驱动轴(7)顶部焊接有齿柱(17)，所述发条盒(15)两侧顶部均焊接有固定架(18)，所述固定架(18)顶部一侧滑动安装有对称设置的斜块架(19)，所述齿柱(17)顶部焊接有转盘(20)，其中一侧所述固定架(18)转动安装有顶盘上劲组件(21)，所述转盘(20)顶部滑动安装有超高真空腔块调节支撑组件(22)。

2.根据权利要求1所述的一种超高真空腔体的等离子清洗设备，其特征在于：所述擒纵机构(14)包括转轴(141)，所述转轴(141)与机械驱动盒(5)内壁底部转动安装，所述转轴(141)表面的底部套设有摆轮(142)，所述转轴(141)表面底部套设有游丝(143)，所述游丝(143)一端与摆轮(142)顶部外侧固定，所述游丝(143)另一端与转轴(141)表面固定，所述转轴(141)表面固定安装有摆板件(144)，所述摆板件(144)与卡柱(13)啮合，所述转轴(141)表面底部固定安装有助力组件(145)，所述机械驱动盒(5)内壁底部固定安装有与转轴(141)转动配合的稳固架(146)，所述机械驱动盒(5)内壁远离转筒(11)的一侧焊接有助摆组件(147)，所述摆板件(144)包括挡盘(1441)、位于挡盘(1441)顶部的限位部(1442)以及开设在限位部(1442)一侧的导向口(1443)。

3.根据权利要求1所述的一种超高真空腔体的等离子清洗设备，其特征在于：所述顶盘上劲组件(21)包括双向丝杠(211)，所述双向丝杠(211)与固定架(18)转动安装，所述双向丝杠(211)表面与斜块架(19)一侧螺纹配合，所述固定架(18)内部转动安装有远离双向丝杠(211)一侧的上劲杆(212)，所述上劲杆(212)表面一侧一体成型有与齿柱(17)啮合的齿牙一(213)，所述双向丝杠(211)一端焊接有手轮(214)，所述上劲杆(212)靠近手轮(214)的一端焊接有拉块(215)，所述固定架(18)远离拉块(215)的一侧焊接有限位杆(216)，所述限位杆(216)与上劲杆(212)远离拉块(215)的一端滑动配合，所述上劲杆(212)表面靠近拉块(215)的一端焊接有限位片(217)，靠近所述手轮(214)一侧的所述固定架(18)焊接有与限位片(217)配合的支撑片(218)。

4.根据权利要求1所述的一种超高真空腔体的等离子清洗设备，其特征在于：所述超高真空腔块调节支撑组件(22)包块滑动块(221)，所述滑动块(221)顶部螺纹连接有定位螺栓(222)，所述转盘(20)顶部开设有环形分布且与滑动块(221)滑动配合的八组滑动槽(223)，所述滑动块(221)顶部焊接有支撑筒(224)，所述支撑筒(224)内部螺纹连接有调节柱(225)，所述调节柱(225)顶部焊接有支撑半球块(226)，所述支撑半球块(226)表面底部开设有防滑槽。