[发明专利]一种防止核酸气溶胶污染的装置及方法

权利要求书

1.一种防止核酸气溶胶污染的装置，其特征在于：包括升降驱动机构、连接臂和罩壳，所述升降驱动机构与所述连接臂连接，用于驱动所述连接臂升降，所述连接臂底端连接所述罩壳，所述罩壳开口朝下设置，所述连接臂内设有与所述罩壳内部连通的流道，石蜡粒经所述流道进入所述罩壳内，所述连接臂上设有用于控制所述流道开闭的阀门，所述罩壳内设有深紫外发光单元，用于发出深紫外线，所述罩壳在所述升降驱动机构的作用下能够罩设于芯片加样孔上并与芯片表面之间形成密封空间。

2.根据权利要求1所述的防止核酸气溶胶污染的装置，其特征在于：还包括密封圈，所述密封圈设置于所述罩壳底面与芯片表面之间。

3.根据权利要求2所述的防止核酸气溶胶污染的装置，其特征在于：所述密封圈上表面设有与所述罩壳下端相配合的环形槽，所述罩壳下端插入所述环形槽中并将所述密封圈压紧密封于芯片表面。

4.根据权利要求2所述的防止核酸气溶胶污染的装置，其特征在于：所述密封圈为环形平面密封圈。

5.根据权利要求2所述的防止核酸气溶胶污染的装置，其特征在于：所述密封圈为柔性材质。

6.根据权利要求1所述的防止核酸气溶胶污染的装置，其特征在于：所述罩壳内壁设有聚光内衬。

7.根据权利要求1所述的防止核酸气溶胶污染的装置，其特征在于：所述深紫外发光单元包括多个呈环形排列的灯珠。

8.根据权利要求6所述的防止核酸气溶胶污染的装置，其特征在于：所述罩壳由塑料、树脂或金属制作而成，所述聚光内衬的材质为纯铝。

9.根据权利要求1所述的防止核酸气溶胶污染的装置，其特征在于：所述阀门为手动控制阀或电磁阀。

10.一种防止核酸气溶胶污染的方法，其特征在于，采用权利要求1~9中任意一项所述的防止核酸气溶胶污染的装置，包括以下步骤：

S1：芯片加样结束后，通过所述升降驱动机构驱动所述连接臂下降，将所述罩壳罩设于芯片加样孔上并与芯片表面之间形成密封空间；

S2：启动所述深紫外发光单元开始消杀，开启所述阀门，石蜡粒经所述流道下落至所述罩壳与芯片表面之间的密封空间中，当石蜡粒下落足量后，关闭所述阀门；

S3：加热芯片，其反应室开始发生反应，热量传导至芯片表面，石蜡粒受热后开始融化，逐渐填满芯片加样孔；

S4：随着反应完成，芯片温度下降，石蜡凝固，自然封闭住芯片加样孔。