[发明专利]一种可实现双向多方位弯折的半刚挠电路板及其加工方法在审
| 申请号: | 202310198689.2 | 申请日: | 2023-03-03 |
| 公开(公告)号: | CN116321683A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
| 发明(设计)人: | 张伦亮;王均臣;夏云平;段绍华 | 申请(专利权)人: | 江西景旺精密电路有限公司 |
| 主分类号: | H05K1/02 | 分类号: | H05K1/02;H05K3/46;H05K3/00 |
| 代理公司: | 南昌洪达专利事务所 36111 | 代理人: | 黄文亮 |
| 地址: | 343000 *** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 实现 双向 多方位 半刚挠 电路板 及其 加工 方法 | ||
1.一种可实现双向多方位弯折的半刚挠电路板,其特征在于:包括软板层和设置在所述软板层上下两侧的硬板层,所述硬板层上通过开窗设置有弯折槽。
2.根据权利要求1所述的一种可实现双向多方位弯折的半刚挠电路板,其特征在于:所述软板层以FR4 2.5mils为基板材料。
3.根据权利要求1所述的一种可实现双向多方位弯折的半刚挠电路板,其特征在于:所述硬板层包括依次设置的铜箔、pp、光板、pp和pp。
4.根据权利要求3所述的一种可实现双向多方位弯折的半刚挠电路板,其特征在于:所述pp为低流动率pp。
5.一种如权利要求1-4任意一项所述的可实现双向多方位弯折的半刚挠电路板的加工方法,其特征在于:所述加工方法包括以下步骤,
S1、软板层加工:依次经过内层前处理、曝光、显影、蚀刻、内层AOI、棕化、快压Coverlay覆盖膜;
S2、硬板层开窗:先在相应位置进行钻孔定位,然后进行开窗处理加工出相应弯折槽;
S3、压合:压合上下使用硅胶垫;用于在软板开窗区域缓冲压合;
S4、后续流程设计。
6.根据权利要求5所述的一种可实现双向多方位弯折的半刚挠电路板的加工方法,其特征在于:所述S2中,硬板层开窗按照开窗单边+20um设计。
7.根据权利要求5所述的一种可实现双向多方位弯折的半刚挠电路板的加工方法,其特征在于:所述S4中后续流程设计包括,
S4.1、钻孔→水平PTH→镀铜;
S4.2、外层前处理→真空压膜→自动压膜机空压一次→曝光→显影→蚀刻→外层AOI→真空压膜;
S4.3、防焊流程:使用挡点印刷,其中,软板区域设挡点不印刷;
S4.4、表面处理→锣板→电测→检验→包装。
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