[发明专利]一种基于进水混合与全域溶解氧控制的氧化沟工艺

权利要求书

1.一种基于进水混合与全域溶解氧控制的氧化沟工艺，其特征在于，包括：沿污水流动方向依次连通的氧化沟设施及沉淀池，所述氧化沟设施中设置有回型廊道，所述回型廊道内设置有穿墙回流泵，所述回型廊道的底部设置有全域的曝气装置；

所述氧化沟工艺具体包括以下步骤：

S1：将污水经过预处理后得到预处理水，并检测预处理水中含有的污染物信息，根据所述污染物信息设置预处理水的停留时间、回流比数值以及在所述回型廊道内的泥水混合物中培养对应的生化细菌；

S2：将预处理水引入所述氧化沟设施的穿墙回流泵处，通过所述穿墙回流泵将预处理水与强制抽取的泥水混合物混合并推往所述回型廊道，通过所述曝气装置控制所述回型廊道中的溶解氧浓度范围在0～0.8mg/L之间；

S3：按照所述回流比数值调整所述穿墙回流泵以及所述曝气装置的运行状态，控制预处理水在所述氧化沟设施中循环流动所述停留时间，通过所述生化细菌除去预处理水中的污染物后得到一级处理水；

S4：通过溢流的方式将一级处理水引入所述沉淀池中，通过混凝沉淀及过滤的方式形成上层清液与下层污泥，将上层清液进行消毒处理，处理达标后进行排放，并将下层污泥引入污泥池中处理。

2.根据权利要求1所述的氧化沟工艺，其特征在于，在步骤S4中，在所述通过混凝沉淀及过滤的方式形成上层清液与下层污泥之前，所述氧化沟工艺还包括：

检测并判断一级处理水中是否存在剩余的污染物，若存在，则根据剩余的污染物往所述沉淀池中添加药剂，所述药剂用于将剩余的污染物去除。

3.根据权利要求1或2所述的氧化沟工艺，其特征在于，在步骤S1中，所述检测预处理水中含有的污染物信息包括：

采集预处理水的样本，通过污染物检测装置检测或者人工检测的方式检测所述样本，从而确定预处理水中含有的污染物信息。

4.根据权利要求1或2所述的氧化沟工艺，其特征在于，在步骤S4中，所述氧化沟工艺还包括：

将溢流出来的一级处理水按照预设比例回流到所述氧化沟设施的穿墙回流泵处，所述预设比例表示进入所述氧化沟设施中的预处理水与回流进入所述氧化沟设施中的一级处理水的比值，所述比值为500％～3000％:1。

5.根据权利要求1或2所述的氧化沟工艺，其特征在于，在步骤S2中通过碳源检测装置检测所述回型廊道内的碳源含量，当所述碳源含量少于预设值时，通过碳源投放器向所述回型廊道中添加碳源。

6.根据权利要求5所述的氧化沟工艺，其特征在于，所述碳源为醋酸钠、葡萄糖、甲醇或生物质碳源中的一种或几种。

7.根据权利要求1或2所述的氧化沟工艺，其特征在于，在步骤S4之后，所述氧化沟工艺还包括：

通过污泥回流管将预设量的下层污泥回流所述回型廊道中，并维持所述回型廊道内的污泥浓度范围在4000～8000mg/L之间。

8.根据权利要求1或2所述的氧化沟工艺，其特征在于，在步骤S3中，所述脱氮工艺还包括：

控制位于所述回型廊道上且与所述穿墙回流泵呈对角设置的廊道水流助推器运行；

根据所述穿墙回流泵的运行状态调整所述廊道水流助推器的运行状态。

9.根据权利要求8所述的氧化沟工艺，其特征在于，所述廊道水流助推器为潜水推流器或潜水搅拌器。

10.根据权利要求1或2所述的氧化沟工艺，其特征在于，所述曝气装置所选用的曝气器为微孔盘式曝气器或微孔管式曝气器。