[发明专利]一种晶圆研磨抛光系统

权利要求书

1.一种晶圆研磨抛光系统，包括执行系统和控制系统，其特征在于，所述执行系统包括支撑组件(1)，所述支撑组件(1)的上方设有转动组件(2)，所述转动组件(2)的上方设有研磨组件(3)，所述研磨组件(3)的上方设有抛光组件(4)，所述研磨组件(3)的侧方设有抛光液添加组件(5)；

所述控制系统包括主控制器、驱动模块、信号采集模块和信号处理分析模块，主控制器与驱动模块、信号采集模块和信号处理分析模块连接，用于控制整个系统运行，

驱动模块，与主控制器连接，用于执行系统中各驱动源工作；

信号采集模块，与主控制器连接，用于采集研磨抛光过程中的压力和振动信号；

信号处理分析模块，与主控制器连接，用于分析信号采集的相关数据，判断抛光垫的磨损程度。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆研磨抛光系统，其特征在于，所述支撑组件(1)包括支撑板(11)，所述支撑板(11)的顶部一侧设有对称分布的两块第一安装板(12)，所述支撑板(11)的顶部另一侧设有第一安装杆(13)，所述第一安装杆(13)的顶部设有对称分布的两块第二安装板(14)，所述支撑板(11)的顶部中间设有第二安装杆(15)，所述第二安装杆(15)的一端设有支撑筒(16)。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆研磨抛光系统，其特征在于，所述转动组件(2)包括第一电动机(21)，所述第一电动机(21)固定在位于一侧的第一安装板(12)上，所述第一电动机(21)的输出轴贯穿第一安装板(12)固定连接有蜗杆(22)，所述蜗杆(22)的侧方设有蜗轮(23)，所述蜗轮(23)与蜗杆(22)啮合，所述蜗轮(23)的两侧设有对称分布的两个第一齿轮(24)，且两个第一齿轮(24)与蜗轮(23)啮合，所述第一齿轮(24)和蜗轮(23)的底部都与支撑板(11)啮合，位于一侧的第一齿轮(24)的顶部设有连接杆(25)，所述连接杆(25)的顶部设有第二齿轮(26)。

4.根据权利要求1所述的一种晶圆研磨抛光系统，其特征在于，所述研磨组件(3)包括第三齿轮(31)，所述第三齿轮(31)和第一齿轮(24)规格一样，所述第三齿轮(31)与第二齿轮(26)啮合，所述第三齿轮(31)的顶部设有转动柱(32)，所述转动柱(32)套设在支撑筒(16)内部，且转动柱(32)与支撑筒(16)转动连接，所述转动柱(32)的顶部设有研磨盘(33)，所述研磨盘(33)底部和侧壁都设有抛光垫(34)。

5.根据权利要求1所述的一种晶圆研磨抛光系统，其特征在于，所述抛光组件(4)包括转动杆(41)，所述转动杆(41)与位于另一侧的第一齿轮(24)的顶部固定连接，所述转动杆(41)依次贯穿第三齿轮(31)、转动柱(32)和研磨盘(33)，且所述转动杆(41)的顶部设有第三安装板(42)，所述第三安装板(42)上开设有对称分布的两个安装槽(43)，所述转动杆(41)的两侧设有对称分布的两个抛光机构(44)，所述抛光机构(44)设置在研磨盘(33)的上方。

6.根据权利要5所述的一种晶圆研磨抛光系统，其特征在于，所述抛光机构(44)包括固定板(441)，所述固定板(441)的两侧设有对称分布的两个螺栓组件(442)，固定板(441)通过螺栓组件(442)可拆卸固定在安装槽(43)内，所述固定板(441)的底部设有电动气缸(443)，所述电动气缸(443)的输出轴固定连接有第四安装板(444)，所述第四安装板(444)的一端顶部固定有第二电动机(445)，所述第二电动机(445)的输出轴贯穿第四安装板(444)固定连接有晶圆承载头(446)。

7.根据权利要求1所述的一种晶圆研磨抛光系统，其特征在于，所述抛光液添加组件(5)包括安装筒(51)，所述安装筒(51)的两侧设有对称分布的两个转动轴(52)，所述转动轴(52)与第二安装板(14)活动连接，所述安装筒(51)内活动安装有抛光液添加管(53)，所述抛光液添加管(53)的一端设置在研磨盘(33)上方。