[发明专利]一种2-位咪唑啉酮修饰的壳聚糖衍生物及其制备方法、应用

权利要求书

1.一种2-位咪唑啉酮修饰的壳聚糖衍生物，其特征在于，它的结构式为：

其中，Ar＝Ph,4-CH₃O-Ph,4-CH₃-Ph,4-F-Ph,4-Cl-Ph,4-Br-Ph,n＝11-500。

2.根据权利要求1所述一种2-位咪唑啉酮修饰的壳聚糖衍生物的制备，其特征在于，它的合成线路如下所示：

其中，Ar＝Ph,4-CH₃O-Ph,4-CH₃-Ph,4-F-Ph,4-Cl-Ph,4-Br-Ph,n＝11-500；

合成步骤为：

a)将化合物1溶于第一溶剂中，加入二硫化碳，升温反应24-36小时，冷却至室温后减压浓缩，重结晶析出固体，过滤，母液减压浓缩蒸干溶剂，得到化合物2；

b)将化合物3溶于第二溶剂中，室温下加入化合物2，升温搅拌反应24-72小时，冷却至室温后减压浓缩，过滤，干燥，透析后冻干，得到得到化合物I。

3.根据权利要求2所述一种2-位咪唑啉酮修饰的壳聚糖衍生物的制备方法，其特征在于，所述步骤a)，化合物1与二硫化碳的摩尔比为1:10-15。

4.根据权利要求2所述一种2-位咪唑啉酮修饰的壳聚糖衍生物的制备方法，其特征在于，所述步骤a)，第一溶剂为二氯甲烷、乙腈一种或二种的混合物。

5.根据权利要求2所述一种2-位咪唑啉酮修饰的壳聚糖衍生物的制备方法，其特征在于，所述步骤a)，反应温度为60℃，反应时间为24h。

6.根据权利要求2所述一种2-位咪唑啉酮修饰的壳聚糖衍生物的制备方法，其特征在于，所述步骤b)，化合物2与化合物3的摩尔之比为1:1-1.5。

7.根据权利要求2所述一种2-位咪唑啉酮修饰的壳聚糖衍生物的制备方法，其特征在于，所述步骤b)，第二溶剂为乙腈，N,N-二甲基甲酰胺中的一种或二种的混合物。

8.根据权利要求2所述一种2-位咪唑啉酮修饰的壳聚糖衍生物的制备方法，其特征在于，所述步骤b)，反应温度为80℃，反应时间为72h。

9.根据权利要求1所述一种2-位咪唑啉酮修饰的壳聚糖衍生物的在制备抗菌材料中的应用。

10.根据权利要求9所述一种2-位咪唑啉酮修饰的壳聚糖衍生物在制备抗菌材料中的应用，其特征在于，所述抗菌材料对大肠杆菌的抑菌率为80-90％。