[发明专利]一种石英器件清洗设备

说明书

本发明公开了一种石英器件清洗设备，包括高浓度酸洗槽、第一清水洗槽、第二清水洗槽、低浓度酸洗槽、第三清水洗槽、去离子水洗槽、抓取部件、输运部件、运动控制部件，所述高浓度酸洗槽、第一清水洗槽、第二清水洗槽、低浓度酸洗槽、第三清水洗槽和去离子水洗槽用于清洗石英器件表面的杂质，所述抓取部件用于石英器件在不同洗槽内的取放，所述输运部件用于石英器件在不同洗槽间的转运，所述运动控制部件用于控制抓取部件和输运部件的工作状态。通过运动控制部件对抓取部件和输运部件进行控制，实现石英器件在不同洗槽内的自动清洗转运，能够减小人工成本，提高清洗的效率和质量，并且大大提高安全性。

技术领域

本发明涉及石英件清洗领域，具体涉及一种石英器件清洗设备。

背景技术

作为半导体零部件生产制造用的重要材料，石英件的制备过程备受关注。然而，在石英件生产制造过程中，石英件表面会残留一些杂质或者缺陷，如果不对其进行处理，会影响成品石英件的表面质量，进而降低半导体零部件的质量。酸洗是一种常见的石英件清洗方式，利用强酸或者弱酸对石英件进行一定时间的浸泡，对其表面杂质进行溶解，以提高表面质量。然而不同石英件表面的杂质数量和分布存在差异，如果只采用一种浓度的酸洗剂对其进行浸泡清洗，可能会使得杂质溶解不充分，无法达到较好的清洗质量。此外，人工清洗过程需要人员操作，因酸性清洗剂具有较强的腐蚀性，若发生溅射或者流溢，可能会对操作人员的身体造成伤害，存在一定的危险性。因此，自动化且酸洗剂梯度分布的石英清洗设备具有重要的应用前景。

发明内容

为解决上述问题，本发明设计了一种石英器件清洗设备，包括高浓度酸洗槽、第一清水洗槽、第二清水洗槽、低浓度酸洗槽、第三清水洗槽、去离子水洗槽、抓取部件、输运部件、运动控制部件、加热部件、支撑部件；

所述抓取部件包括第一驱动电机、运动丝杠、第一移动台、挂钩，所述输运部件包括第二驱动电机、移动导轨、第二移动台；

所述石英器件清洗设备的清洗工序依次在高浓度酸洗槽、第一清水洗槽、第二清水洗槽、低浓度酸洗槽、第三清水洗槽、去离子水洗槽中完成。

进一步的，所述高浓度酸洗槽装有强酸洗剂，所述强酸洗剂由氢氟酸和清水组成，且氢氟酸和水的比例为50:1，所述强酸洗剂温度维持在40-50℃之间，提高酸洗效率。

进一步的，所述第一清水洗槽、第二清水洗槽和第三清水洗槽装有清水，所述第一清水洗槽中清水温度维持在35-40℃，对石英件表面强酸洗剂进行粗洗，所述第二清水洗槽中清水温度维持在30-35℃，对石英件表面强酸洗剂进行精洗，所述第三清水洗槽中清水温度维持在常温，对石英件表面弱酸洗剂进行精洗。

进一步的，所述高浓度酸洗槽、第一清水洗槽、第二清水洗槽、低浓度酸洗槽、第三清水洗槽、去离子水洗槽内装有PH值检测装置，同时各洗槽表面设有PH值显示窗口，能够对各洗槽内洗液的酸度进行监测，以便及时更换洗剂，保证清洗质量。

进一步的，所述低浓度酸洗槽装有弱酸洗剂，所述弱酸洗剂由氢氟酸和清水组成，且氢氟酸和水的比例为25:1，所述弱酸洗剂温度维持在30-35℃之间，提高酸洗效率。

进一步的，所述去离子水洗槽装有去离子水，所述去离子水温度维持在常温，进一步提高石英器件清洁度。

进一步的，所述抓取部件置在各洗槽上方，所述抓取部件连接于输运部件，所述抓取部件和输运部件通过运动控制部件控制，所述运动控制部件为PLC控制器，所述PLC控制器能够控制第一驱动电机和第二驱动电机的运动状态，包括启停控制和定时控制。

进一步的，所述第一驱动电机设置于运动丝杠上方，对运动丝杠的竖直往复运动进行驱动，所述运动丝杠上设有第一移动台，所述第一移动台能够随运动丝杠做竖直往复运动，所述第一移动台连接有挂钩，所述挂钩能够对洗槽中的盛具进行勾取。

进一步的，所述运动丝杠设置在第二移动台上，所述第二移动台设置在移动导轨上，所述移动导轨的水平往复运动通过第二驱动电机控制。