[发明专利]一种光谱成像中心波长入射角度偏移的校准方法及设备在审

专利信息
申请号: 202310093558.8 申请日: 2023-02-03
公开(公告)号: CN115993187A 公开(公告)日: 2023-04-21
发明(设计)人: 李江漫;方鹏程;冯超 申请(专利权)人: 优尼科(青岛)微电子有限公司
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/02
代理公司: 青岛鼎丞智佳知识产权代理事务所(普通合伙) 37277 代理人: 王剑伟
地址: 266000 山东省青岛市崂山区*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 光谱 成像 中心 波长 入射 角度 偏移 校准 方法 设备
【说明书】:

本发明主要提供了一种光谱成像中心波长入射角度偏移的校准方法及设备,属于光谱成像图像校准技术领域,本发明的校准方法基于所搭建的校准模型,首先采集均匀分布的特定样本及大参考白板的光谱图像数据,归一化计算样本不同入射角的光谱反射率及基准反射率,形成数据集合并建立相应的映射关系,形成训练样本集合,输入到校准模型中对其进行训练,得到最终的校准模型,模型搭建完成后采集待检测样本并计算获取新的光谱数据集合输入到校准模型中,对光谱数据进行校准。本发明提高了法布里珀罗干涉腔光谱相机的识别准确率,消除了中心波长偏移的影响,方法设计巧妙,易于实现;同时,不需要重新建立光谱应用模型,实现成本更低,效率更高。

技术领域

本发明属于光谱成像图像校准技术领域,尤其涉及一种光谱成像中心波长入射角度偏移的校准方法及设备。

背景技术

中心波长偏移是法布里珀罗干涉腔(法珀腔)固有的物理特性,只要入射光不能够准直地进入法布里珀罗干涉腔,那么任何基于法布里珀罗干涉腔实现的多光谱或者高光谱成像系统都会存在中心波长偏移的问题,并且跟法布里珀罗干涉腔的技术实现方式(静电式/压电式/其他方式)无关。目前现有的基于法布里珀罗干涉腔实现的多光谱或者高光谱成像系统都无法做到让入射光完全准直地进入法布里珀罗干涉腔,因此必定会存在中心波长偏移的问题。

现有的技术方案中更多的是设计和修改光谱成像的光学系统来达到让光线尽可能的准直地进入法布里珀罗干涉腔,但是目前已知的基于法布里珀罗实现的光谱成像的光学系统中还无法做到100%让所有光线都能够准直的进入法布里珀罗干涉腔,并且由此会导致光谱相机的FOV变小,通光率降低等等问题,同时修改光学系统的技术难度和实现成本也会更高。

同时也有技术方案尝试在光谱图像中增加光谱空间特征,来消除中心波长偏移的影响,使后期的光谱应用模型以正确的波长看待光谱反射率数据,其虽然可以解决中心波长偏移对光谱应用模型的影响,但是需要重新建立光谱应用模型,增加了新的问题。

发明内容

针对上述问题,本发明专利提出了一种光谱成像中心波长入射角度偏移的校准模型搭建方法,包括以下步骤:

步骤1,使用法布里珀罗干涉腔的光谱相机拍摄采集均匀分布的特定样本光谱图像数据;所述均匀分布的特定样本,是在光谱图像范围内,每个入射角度θ都分布有特定样本物质;所述光谱图像成像数据是一种三维形式的光谱立方体,包含二维的图像信息m行*n列和一维的光谱信息k个谱段;

使用法布里珀罗干涉腔的光谱相机拍摄获取大标准漫反射参考白板的光谱图像数据,所述大标准漫反射参考白板的光谱图像数据也是一种三维形式的光谱立方体,包含二维的图像信息和一维的光谱信息k个谱段;

步骤2,使用获取的大标准漫反射参考白板的光谱立方体对特定样本的光谱立方体进行归一化处理,获取每个入射角度θ下特定样本物质的反射率,以及图像中心位置0度垂直入射时特定样本物质的基准光谱反射率;

步骤3,将每个入射角度θ及其对应特定样本物质的反射率建立数据集集合Xθ,同时,建立k个谱段的基准光谱反射率集合Y;

Xθ=[Reflection_1,Reflection_2,...,Reflection_k,入射角度θ]

Reflection_k表示在第k个谱段的角度θ时的反射率;

Y=[Reflection_0_1,Reflection_0_2,...,Reflection_0_k]Reflection_0_k表示在第k个谱段的入射角度为0时的基准光谱反射率;

步骤4,建立Xθ与Y之间的映射关系,并形成训练样本数据集;

步骤5,初始化校准模型的参数,输入训练样本数据集,经过多次迭代后,在预测误差降低到设置的阈值时停止迭代,得到最终的校准模型。

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