[发明专利]一种抑制混叠伪影的方法及装置在审
申请号: | 202310073162.7 | 申请日: | 2023-01-13 |
公开(公告)号: | CN116092516A | 公开(公告)日: | 2023-05-09 |
发明(设计)人: | 赵光赢;尚增强;王丽;黎塔 | 申请(专利权)人: | 中国科学院声学研究所 |
主分类号: | G10L25/03 | 分类号: | G10L25/03;G10L25/27;G10L25/18;G10L25/45;G10L25/48;G10L21/0208 |
代理公司: | 北京亿腾知识产权代理事务所(普通合伙) 11309 | 代理人: | 陈霁 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抑制 混叠伪影 方法 装置 | ||
1.一种抑制混叠伪影的方法,其特征在于,包括:将输入生成器的声学特征x0过普通卷积后的特征x1,输入第一层上采样模块;
自第一层上采样模块起,对输入第i-1层上采样模块的特征xi-1执行步骤:
对特征xi-1上采样ri-1倍,得到特征
将特征过低通滤波器,得到抗混叠特征
将声学特征x0上采样倍,得到的特征过普通卷积生成高频特征ni;
将生成的高频特征ni和抗混叠特征相加后,过非线性残差模块非线性激活生成xi并输出;或者,
包括:将输入生成器的声学特征x0过普通卷积后的特征x1,输入第一层上采样模块;第一层上采样模块对特征x1上采样r1倍后,过非线性残差模块非线性激活生成特征x2,将特征x2输入第二层上采样模块;
自第二层上采样模块起,对输入第i-1层上采样模块的特征xi-1执行步骤:
对特征xi-1上采样ri-1倍,得到输出特征
将特征过低通滤波器,得到抗混叠特征
将声学特征x0上采样倍,得到的特征过普通卷积生成高频特征ni;
将生成的高频特征ni和抗混叠特征相加后,过非线性残差模块非线性激活生成xi并输出。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述低通滤波器通过凯泽窗的sinc函数实现,对于N倍上采样之后采样率是fs的特征序列,选择临界采样,并设置截止频率为fs/2N,过渡带为fs/2N。
3.一种抑制混叠伪影的装置,其特征在于,包括:第一普通卷积模块和至少两层上采样模块;其中,
第一普通卷积模块,用于将输入生成器的声学特征x0过普通卷积后的特征x1,输入第一层上采样模块;
自第一层上采样模块起,第i-1层上采样模块,用于对输入特征执行:
对输入特征xi-1上采样ri-1倍,得到特征
将特征过低通滤波器,得到抗混叠特征
将声学特征x0上采样倍,得到的特征过普通卷积生成高频特征ni;
将生成的高频特征ni和抗混叠特征相加后,过非线性残差模块非线性激活生成xi并输出;或者,
包括:第一普通卷积模块、至少两层上采样模块;其中,
第一普通卷积模块,用于将输入生成器的声学特征x0过普通卷积后的特征x1,输入第一层上采样模块;
第一层上采样模块,用于对特征x1上采样r1倍后,过非线性残差模块非线性激活生成特征x2,将特征x2输入第二层上采样模块;
自第二层上采样模块起,第i-1层上采样模块,用于对输入特征执行:
对输入特征xi-1上采样ri-1倍,得到特征
将特征过低通滤波器,得到抗混叠特征
将声学特征x0上采样倍,得到的特征过普通卷积生成高频特征ni;
将生成的高频特征ni和抗混叠特征相加后,过非线性残差模块非线性激活生成xi并输出。
4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述低通滤波器通过凯泽窗的sinc函数实现,对于N倍上采样之后采样率是fs的特征序列,选择临界采样,并设置截止频率为fs/2N,过渡带为fs/2N。
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