[发明专利]一种具有控油祛痘、祛痘印功效的组合物、精华液及其制备方法

说明书

本发明涉及化妆品领域，具体涉及一种具有控油祛痘、祛痘印功效的组合物、精华液及其制备方法，具有控油祛痘、祛痘印功效的组合物包含质量比为(1‑10)：(0.1‑1)：(1‑10)：(0.001‑0.005)的壬二酰胺‑MEA、羟基积雪草苷、酵母菌/锌发酵产物和聚季铵盐‑73。精华液包括以下重量百分比的组分：具有控油祛痘、祛痘印功效的组合物5‑30％；化妆品辅料基质70‑95％；所述的化妆品辅料基质包括保湿剂、增稠剂、防腐剂、日用香精和去离子水。与现有技术相比，本发明通能打开肌肤毛孔，调节皮肤的水油平衡，去除痘痘，淡化痘印，修复受损肌肤，维持皮肤屏障功能，多方位解决痘痘危机。

技术领域

本发明涉及化妆品领域，尤其是涉及一种具有控油祛痘、祛痘印功效的组合物、精华液及其制备方法。

背景技术

在临床上，痘痘被称为“痤疮”，是一种毛囊皮脂腺的慢性炎症性皮肤病，由于好发于青春期男女，痤疮也常被称为“青春痘”。痤疮的表现多种多样，黑头粉刺、白头粉刺、丘疹、脓包这些听起来很复杂的东西，其实都是痘痘在不同时期的表现方式。

青春痘，早已不只是十几岁少年的标配，越来越多20+和30+的人也陆续被痘痘攻占，“痘痘”问题人口基数庞大，“口罩闷痘”加重诉求，且呈上升趋势，祛痘市场热度持续攀升。

作为祛痘类化妆品的核心组分，祛痘活性成分的选择至关重要，但受配方应用以及我国法规对相关成分与用量的限制，市售祛痘护肤品普遍存在功效成分单一、见效慢、祛痘效果不理想等不足。如何针对痤疮皮肤的生理病理特性、寻找高效、安全的祛痘类活性组合物，是化妆品从业人员有待努力的方向。

发明内容

本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种能打开肌肤毛孔，调节皮肤的水油平衡，去除痘痘，淡化痘印，修复受损肌肤，维持皮肤屏障功能，多方位解决痘痘危机的具有控油祛痘、祛痘印功效的组合物及其制备方法和应用。

本发明的目的可以通过以下技术方案来实现：一种具有控油祛痘、祛痘印功效的组合物，该具有控油祛痘、祛痘印功效的组合物包含质量比为：(1-10)：(0.1-1)：(1-10)：(0.001-0.005)的壬二酰胺-MEA、羟基积雪草苷、酵母菌/锌发酵产物和聚季铵盐-73。

进一步地，所述的壬二酰胺-MEA、羟基积雪草苷、酵母菌/锌发酵产物和聚季铵盐-73的质量比为(2-8)：(0.1-0.6)：(1-6)：(0.003-0.005)。进一步优选地，羟基积雪草苷、酵母菌/锌发酵产物、壬二酰胺-MEA、聚季铵盐-73的质量比为(0.1～0.5)：(1～5)：(3～5)：(0.001-0.005)；其中聚季铵盐-73使用之前先用丁二醇溶解，其中聚季铵盐-73和丁二醇质量比为(0.001～0.005)：5。

更进一步地，所述的壬二酰胺-MEA、羟基积雪草苷、酵母菌/锌发酵产物和聚季铵盐-73的质量比为(3-5)：(0.1-0.3)：(4-5)：(0.003-0.005)。

更进一步地，酵母菌/锌发酵产物为酵母精华素Z20。

本发明还提供一种包含所述的具有控油祛痘、祛痘印功效的组合物的精华液，包括以下重量百分比的组分：

具有控油祛痘、祛痘印功效的组合物5-30％；

化妆品辅料基质70-95％；所述的化妆品辅料基质包括保湿剂、增稠剂、防腐剂、日用香精和去离子水。

进一步地，以精华液的制备原料总质量为100％计，所述具有控油祛痘、祛痘印功效的组合包括1-10％的壬二酰胺-MEA；0.1-1％的羟基积雪草苷；1-10％的酵母菌/锌发酵产物酵母菌/锌发酵产物；0.001-0.005％的聚季铵盐-73。

进一步地，以精华液的制备原料总质量为100％计，所述的化妆品辅料基质包括：0.2-35％的保湿剂；0.2-1％的增稠剂；0.5-1％的防腐剂；0.005-1％的日用香精；余量为去离子水。