[发明专利]一种用于金刚石线锯切割舱体及管道的水基清洗剂

说明书

一种用于金刚石线锯切割舱体及管道的水基清洗剂，由一水柠檬酸、二氧化硫脲、三乙醇胺、十二烷基聚氧乙烯醚硫酸酯、聚乙二醇400、无水乙醇、二甲基硅油、季铵盐离子液体和79～85％的去离子水混合而成组成。二氧化硫脲、三乙醇胺与多种金属生成的金属离子螯合剂能有效对分散的金属颗粒进行捕获；聚乙二醇400与无水乙醇增强清洗剂在管道内羁留能够迅速软化硅泥；季铵盐离子液体比有机溶剂更具环境友好性，同时兼具催化作用，能提升清洗速度和效果。在体系柠檬酸缓冲环境下，结合十二烷基聚氧乙烯醚硫酸酯，与季铵盐离子液体协同作用能够有效清洗去除切割舱体及管道内羁留的金属污垢，具有效率好，成本低、断线率低、硅片切片性能提升的特点。

技术领域

本发明涉及半导体和光伏产业技术领域，具体是一种用于硅片加工过程中金刚石线锯切割舱体及管道清洗的水基清洗剂。

背景技术

硅片是半导体和光伏产业最重要最基础的原材料，近年来随着半导体和光伏产业的快速发展，对硅片加工质量的标准也越来越高。在硅片加工的众多工序中，硅锭的切片是对其质量影响最大、消耗成本最高的工序。与传统的内圆切割相比，目前硅片切割方式以多线锯切割工艺为主，它具有效率高、切缝损失小、表面损伤层浅、表面质量好、能加工大尺寸硅片的优点，但由于其在固结磨料线锯切割工艺中，金刚石磨料是以特定的方式固定在钢线上，在切片过程中由于金刚线和硅锭高速研磨运转，金刚石线锯切割舱体及管道内会产生大量的热量以及硅粉颗粒，从而导致管道堵塞，内壁沉积，对硅片切割有很严重的影响，故需要使用水基清洗剂来清理附着在金刚石线锯切割舱体及管道内的沉积物。因此水基清洗剂是在该工艺过程中必不可少的辅材，其性能优良严重影响到硅片切割机，截断机的性能和生产质量。此外，国内硅片加工企业目前大多采用国外进口水基清洗剂产品，切割成本较高，且切割效率效果一般、产生的切割废液难以降解、切割过程中所产生的细小硅粉和氧气高温产生的硅酸盐以及砂浆罐中的硅泥在硅片切割机，截断机的舱体及管道内易形成羁留，堵塞管路，长期以往影响压滤系统循环使用，增加能耗，难以彻底清除，最终在切片过程中会有杂质掉落在切割线网上导致断线、跳线等。

目前，已公开的各类清洗剂方法较多，但多数针对的油田管道，及日常生活厨房油污的清洗去除。金刚石线锯切割舱体及管道的清洗鲜有报道。在公开号为CN111218691A的发明创造中公开了一种用于报废输油管道的清洗剂及其制备方法，主要提供的是针对油污的去除，技术特点在于确保管壁无油无蜡，呈现金属光泽。其中，脂肪醇聚氧乙烯醚用于沉积物中石蜡、胶质沥青质在清洗剂中的增容，使原油管道中的石蜡、胶质沥青质在清洗剂中的溶解量提升。而管道中针对性清除的胶质，本身属于结构非常复杂的含碳、氢、硫、氧、氮等元素的化合物，沥青质的结构近似胶质而且比胶质更复杂。在公开号为CN109576068A的发明创造中公开了一种玻璃蚀刻行业管道清洗剂及其清洗方法，所采用的技术方案主要是通过无机酸、醇胺和阴离子表面活性剂几种物质之间的协同作用，针对性清除管道内壁的结晶物。上述已公开的现有技术虽然对管道内的油污和结晶能进行有效的去除，但难以实现对金刚石线锯切割舱体及管道内的细小硅粉和氧气高温产生的硅酸盐以及砂浆罐中的硅泥去除。

发明内容

为克服现有技术中存在的切割废液难以降解、切割过程中所产生的细小硅粉和氧气高温产生的硅酸盐以及砂浆罐中的硅泥在硅片切割机，截断机的舱体及管道内易形成羁留，堵塞管路，影响压滤系统循环使用，难以彻底清除，且尚无适用的清洗剂的不足，本发明提出了一种用于金刚石线锯切割舱体及管道的水基清洗剂。

本发明提出的用于金刚石线锯切割舱体及管道的水基清洗剂由3～5％的一水柠檬酸、0.5～1％的二氧化硫脲、2～4％的三乙醇胺、2～5％的十二烷基聚氧乙烯醚硫酸酯、0.5～1％的聚乙二醇400、2～3％的无水乙醇、0.03～0.05％的二甲基硅油、2～3.15％的季铵盐离子液体和79～85％的去离子水组成；所述百分比是重量百分比。

本发明提出的制备所述水基清洗剂的具体过程是：

步骤1，称量物料：